本文關鍵詞：一種評價CCOS拋光工藝誤差抑制能力的方法

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【摘要】：結(jié)合光學加工中材料去除的卷積模型和功率譜密度函數(shù),建立了描述CCOS拋光工藝抑制不同頻段誤差能力的數(shù)學模型——平滑譜函數(shù).利用Rigid Conformal磨盤拋光620mm口徑微晶平面玻璃,通過計算平滑譜函數(shù)曲線,將CCOS拋光工藝抑制不同頻段誤差的能力表示為歸一化且無量綱的頻譜曲線.計算結(jié)果表明平滑譜函數(shù)曲線能以數(shù)值大小評價CCOS拋光工藝對不同頻率誤差的抑制能力.
【作者單位】： 中國科學院光電技術研究所;中國科學院大學;
【關鍵詞】： 光學加工 平滑譜函數(shù) 功率譜密度 中高頻誤差 卷積模型
【基金】：國家自然科學基金(61378054)資助
【分類號】：TH74;TG580.692
【正文快照】： 0引言現(xiàn)代光學制造工程具有顯著的極端制造特征,即在極端技術條件要求的背景下,制造極端尺度、極高功能器件或功能系統(tǒng)的大科學工程[1].我國目前正面臨著完成大口徑望遠鏡系統(tǒng)、納米尺度光刻系統(tǒng)和高功率激光系統(tǒng)等典型極端光學研制工程的任務.在極端光學系統(tǒng)中,光學元件表面

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本文編號：1112475