光學表面中高頻誤差的仿真分析
本文關鍵詞:光學表面中高頻誤差的仿真分析
【摘要】:在光學設計和裝調過程中,常常需要隨時根據面形質量來預估光學系統(tǒng)的性能,傳統(tǒng)的方法都是借助澤尼克多項式擬合光學表面面形來進行仿真評價。但非球面光學元件在加工過程中常常產生中高頻誤差,這類誤差會引入小角度的散射,進而影響光學系統(tǒng)像質評價。提供了一種"點對應點"的仿真方法,通過準確評價面形質量獲得高精度的像質預估結果,解決了傳統(tǒng)的澤尼克多項式不能描述中高頻成分的關鍵問題。該方法在實際光學系統(tǒng)中進行了驗證,仿真結果和實測數據吻合度優(yōu)于90%。
【作者單位】: 北京空間機電研究所;
【關鍵詞】: 表面面形 中高頻誤差 澤尼克多項式 仿真
【基金】:國家重大科技專項
【分類號】:TH74
【正文快照】: 0引言光學系統(tǒng)中的光學元件在加工或者外載荷作用下,表面面形常常發(fā)生變化,所有這些變化都引起光學系統(tǒng)的波前畸變,從而影響光學系統(tǒng)的性能。因此,在進行光學設計和光學裝調的過程中,常常需要隨時評價面形對于光學系統(tǒng)的性能(通常為RMS或者MTF)的影響。近些年來,工程中都借助
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,本文編號:1109371
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