本文關(guān)鍵詞：2m大口徑RB-SiC反射鏡的磁控濺射改性

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【摘要】：為了消除RB-SiC反射鏡直接拋光后表面存在的微觀缺陷,降低拋光后表面的粗糙度,提高表面質(zhì)量,針對(duì)大口徑SiC的特性,選擇Si作為改性材料,利用磁控濺射技術(shù)對(duì)2m量級(jí)RB-SiC基底進(jìn)行了表面改性。在自主研發(fā)的Φ3.2m的磁控濺射鍍膜機(jī)上進(jìn)行基底鍍膜,利用計(jì)算機(jī)控制光學(xué)成型法對(duì)SiC基底進(jìn)行了拋光改性。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,改性層厚度達(dá)到15μm;在直徑2.04m范圍內(nèi),膜層厚度均勻性優(yōu)于±2.5%;表面粗糙度由直接拋光的5.64nm(RMS)降低到0.78nm。由此說明磁控濺射技術(shù)能夠用于大口徑RB-SiC基底的表面改性,并且改性后大口徑RB-SiC的性能可以滿足高質(zhì)量光學(xué)系統(tǒng)的要求。
【作者單位】： 中國科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所光學(xué)系統(tǒng)先進(jìn)制造技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;
【關(guān)鍵詞】： 光學(xué)加工 磁控濺射 表面改性 RB-SiC 大口徑
【基金】：國家自然科學(xué)基金資助項(xiàng)目(No.60478035)
【分類號(hào)】：TH743
【正文快照】： 1引言現(xiàn)代光學(xué)技術(shù)突飛猛進(jìn)的發(fā)展,以及人們對(duì)地及對(duì)深空進(jìn)行高分辨率探測(cè)的迫切需求,促使空間望遠(yuǎn)鏡向著高分辨率、寬視場(chǎng)的方向發(fā)展。為了獲得更高的角分辨率、更多的光通量以及更高的信噪比,需要制造更大口徑的望遠(yuǎn)鏡。空間望遠(yuǎn)鏡通常采用由主鏡和次鏡組成的反射式光學(xué)系統(tǒng)，

本文編號(hào)：1095171