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基于光柵單色儀的光譜發(fā)射率測量裝置

發(fā)布時間:2017-10-24 06:21

  本文關(guān)鍵詞:基于光柵單色儀的光譜發(fā)射率測量裝置


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【摘要】:本文基于光柵單色儀研制了一套可以準(zhǔn)確測量材料光譜發(fā)射率的實驗裝置,并對常見的兩種金屬材料鋁和銅的光譜發(fā)射率進(jìn)行了系統(tǒng)的研究。文章第一章介紹了本文的研究背景與意義,闡述了材料發(fā)射率的在諸多領(lǐng)域的重要應(yīng)用,總結(jié)了發(fā)射率的測量方法,并對幾種測量方法進(jìn)行比較,最后對發(fā)射率測量現(xiàn)狀及存在的問題進(jìn)行了探討。第二章簡要介紹了和發(fā)射率相關(guān)的基本熱輻射理論,發(fā)射率定義的幾種常見分類,并給出了每種發(fā)射率定義的數(shù)學(xué)表達(dá)式。第三章介紹了自主研制的材料光譜發(fā)射率裝置的主要組成部分:樣品加熱及溫度控制裝置、標(biāo)準(zhǔn)黑體爐、光柵單色儀、鎖相放大器和斬波器、離軸拋物面反射鏡及電動旋轉(zhuǎn)臺,并對每部分都進(jìn)行了詳細(xì)介紹。該發(fā)射率測量裝置可以實現(xiàn)材料光譜發(fā)射率在溫度范圍373-1073K,波長范圍0.8-2.2μm內(nèi)的精確測量。溫度和波長范圍也可以通過更換加熱裝置、光柵和探測器進(jìn)行拓展。此外,本章還對光譜發(fā)射率實驗裝置的測量原理進(jìn)行了分析,探討了影響光譜發(fā)射率測量的諸多因素,給出了本實驗裝置的具體測量公式。第四章介紹了純鋁及鋁合金的光譜發(fā)射率研究結(jié)果。利用研制的光譜發(fā)射率測量儀器對純鋁及鋁合金在溫度范圍373-873K,波長范圍0.8-2.2μm內(nèi)的光譜發(fā)射率進(jìn)行了系統(tǒng)研究。結(jié)果表明:純鋁在未被氧化情況下(氬氣保護(hù)),其光譜發(fā)射率隨著測量波長的增加而變小,隨著溫度的升高而變大;氧化會增大純鋁的光譜發(fā)射率,樣品表面氧化膜厚度直接影響其發(fā)射率數(shù)值大小,樣品表面氧化達(dá)到一定程度后,其發(fā)射率數(shù)值也趨于穩(wěn)定。恒溫長時間測量發(fā)現(xiàn):樣品的光譜發(fā)射率隨著氧化時間的持續(xù)緩慢變大,一段時間后趨于穩(wěn)定。此外,還運用實驗室之前的研制反射式發(fā)射率測量裝置對鋁合金5052在波長1.55μm處的光譜發(fā)射率進(jìn)行了測量。第五章介紹了黃銅及紅銅的光譜發(fā)射率研究結(jié)果。利用反射式發(fā)射率測量裝置對黃銅和紫銅在300K至1123K之間波長1.55μm處的光譜發(fā)射率進(jìn)行了系統(tǒng)的研究,探討了溫度、氧化、加熱時間等因素對兩種銅樣品光譜發(fā)射率的影響。實驗結(jié)果表明:黃銅和紫銅的光譜發(fā)射率均隨溫度的升高而增大,并且分別出現(xiàn)了峰值和谷值。通過分析有氧化膜時金屬的反射模型,得到了金屬氧化膜厚度的計算公式,利用得到的公式估算了紫銅出現(xiàn)峰值和谷值時的氧化膜厚度。由恒溫長時間測量結(jié)果可以看出:光譜發(fā)射率隨加熱時間出現(xiàn)小幅增大,較高溫度處的發(fā)射率數(shù)值始終大于較低溫度處的發(fā)射率數(shù)值。
【關(guān)鍵詞】:光譜發(fā)射率 單色儀 溫度 表面氧化 干涉效應(yīng)
【學(xué)位授予單位】:河南師范大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2015
【分類號】:TH74
【目錄】:
  • 摘要4-6
  • ABSTRACT6-11
  • 第一章 緒論11-17
  • 1.1 研究背景與意義11-12
  • 1.2 發(fā)射率測量技術(shù)研究現(xiàn)狀12-14
  • 1.2.1 量熱法13
  • 1.2.2 反射法13-14
  • 1.2.3 能量對比法14
  • 1.2.4 多波長法14
  • 1.3 發(fā)射率測量存在問題分析14-15
  • 1.4 研究內(nèi)容15-17
  • 第二章 能量對比法發(fā)射率測量技術(shù)基礎(chǔ)理論17-25
  • 2.1 熱輻射基本理論17-22
  • 2.1.1 黑體輻射基本定律17-20
  • 2.1.2 發(fā)射率的各種形式及其定義20-22
  • 2.2 能量對比法發(fā)射率測量技術(shù)原理22-24
  • 2.3 本章小結(jié)24-25
  • 第三章 基于光柵單色儀光譜發(fā)射率測量裝置25-35
  • 3.1 裝置基本測量原理25
  • 3.2 測量裝置整體介紹25-32
  • 3.2.1 平板加熱爐及溫控裝置26-28
  • 3.2.2 黑體爐28-29
  • 3.2.3 光柵單色儀29-30
  • 3.2.4 鎖相放大器及斬波器30-31
  • 3.2.5 離軸拋物面反射鏡及電動旋轉(zhuǎn)臺31-32
  • 3.3 光譜發(fā)射率測量裝置性能測試32-34
  • 3.3.1 純鈦TA2光譜發(fā)射率測試32-33
  • 3.3.2 測量不確定度評定33-34
  • 3.4 本章小結(jié)34-35
  • 第四章 純鋁及鋁合金光譜發(fā)射率研究35-49
  • 4.1 引言35-36
  • 4.2 純鋁光譜發(fā)射率研究36-44
  • 4.2.1 樣品制備36-37
  • 4.2.2 氬氣保護(hù)下純鋁的光譜發(fā)射率37-39
  • 4.2.3 純鋁在不同溫度下氧化 4h后的光譜發(fā)射率39-40
  • 4.2.4 純鋁在 873K不同氧化時間的光譜發(fā)射率40-44
  • 4.3 鋁合金Al5052波長 1.55μm處光譜發(fā)射率研究44-48
  • 4.3.1 樣品制備45-46
  • 4.3.2 Al5052光譜發(fā)射率與溫度之間的關(guān)系46-47
  • 4.3.3 Al5052光譜發(fā)射率與加熱時間之間的關(guān)系47-48
  • 4.4 本章小結(jié)48-49
  • 第五章 銅光譜發(fā)射率研究49-57
  • 5.1 引言49-50
  • 5.2 銅波長 1.55μm處光譜發(fā)射率研究50-55
  • 5.2.1 樣品處理50
  • 5.2.2 溫度對銅光譜發(fā)射率的影響50-52
  • 5.2.3 氧化膜厚度對光譜發(fā)射率的影響52-54
  • 5.2.4 加熱時間對光譜發(fā)射率的影響54-55
  • 5.3 本章小結(jié)55-57
  • 第六章 總結(jié)與展望57-59
  • 6.1 主要研究內(nèi)容及結(jié)果57
  • 6.2 展望57-59
  • 參考文獻(xiàn)59-63
  • 致謝63-65
  • 攻讀碩士學(xué)位期間發(fā)表的論文目錄65-66

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本文編號:1087453

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