本文關(guān)鍵詞：大光柵刻劃機(jī)工作臺(tái)的擺角矯正機(jī)構(gòu)研制

  更多相關(guān)文章： 光柵刻劃機(jī) 刻劃光柵 擺角誤差 壓電觸動(dòng)器

【摘要】：大光柵刻劃機(jī)若存在擺角誤差,將直接影響刻劃光柵的波前質(zhì)量。首先,計(jì)算得到李特洛設(shè)置下的擺角誤差與波前質(zhì)量的映射關(guān)系。其次,論述了雙壓電觸動(dòng)器校正擺角的工作原理,并設(shè)計(jì)了擺角測量光路,測量在該結(jié)構(gòu)下工作臺(tái)的擺角校正能力。最后基于以上結(jié)構(gòu)對(duì)工作臺(tái)進(jìn)行刻劃實(shí)驗(yàn)。結(jié)果表明在具有400×500光柵刻劃能力的刻劃機(jī)上,采用雙壓電觸動(dòng)器校正工作臺(tái)擺角誤差,能夠滿足±5μm行程范圍內(nèi)±2″校正范圍的要求;實(shí)驗(yàn)表明擺角誤差校正后工作臺(tái)的偏轉(zhuǎn)角度由0.42″降低至0.02″,校正后的擺角誤差相比于校正前降低了95.24%,滿足對(duì)工作臺(tái)擺角校正精度的要求,提高了光柵的波前質(zhì)量。以上實(shí)驗(yàn)結(jié)果為刻劃出高精度大面積光柵提供了基礎(chǔ)保障。
【作者單位】： 中科院長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所;中國科學(xué)院大學(xué);
【關(guān)鍵詞】： 光柵刻劃機(jī) 刻劃光柵 擺角誤差 壓電觸動(dòng)器
【基金】：國家重點(diǎn)基礎(chǔ)研究發(fā)展計(jì)劃(973)項(xiàng)目(2014CB049500) 國家重大科研裝備研制項(xiàng)目(ZDY2008-1) 科技部國家重點(diǎn)基礎(chǔ)研究發(fā)展計(jì)劃(2014CB049500) 長春市場科技計(jì)劃(Y3B43HU140)資助項(xiàng)目
【分類號(hào)】：TH74;TH112
【正文快照】： 1引言大尺寸高精度光柵尤其是高分辨率的中階梯光柵[1]成為光譜技術(shù)領(lǐng)域關(guān)注的新熱點(diǎn),在軍事、天文、航天航空、核能以及各類民用領(lǐng)域的需求逐步提升[2-3]。目前對(duì)于低刻線密度的紅外激光光柵和所有中階梯光柵,由于光柵衍射效率較高以及對(duì)光柵刻槽的特殊要求,一般均采用機(jī)械刻

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【相似文獻(xiàn)】

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1 張壘壘;中階梯光柵機(jī)械刻劃工藝參數(shù)優(yōu)化研究[D];長春理工大學(xué);2012年

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本文編號(hào)：1069194