本文關(guān)鍵詞：大口徑光學(xué)元件磁流變加工駐留時(shí)間求解算法

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【摘要】：為了解決大口徑光學(xué)元件磁流變高精度加工問題,基于矩陣運(yùn)算模型,提出了SBB(Subspace Barzilai and Borwein)最小非負(fù)二乘與自適應(yīng)Tikhonov正則化相結(jié)合的駐留時(shí)間快速求解方法。同時(shí),在一次收斂中采用雙去除函數(shù)優(yōu)化螺旋線軌跡下光學(xué)元件的加工,保證中心區(qū)域與全口徑面形精度一致。仿真表明該算法與常用Lawson-Hanson最小非負(fù)二乘法相比,計(jì)算精度一致且求解效率大幅提高。對(duì)Φ600mm以彗差為主的光學(xué)表面模擬加工,峰谷(PV)值和均方根(RMS)值從初始的2.712λ與0.461λ中心區(qū)域全局一致收斂到0.306λ和0.0199λ(λ=632.8nm)。因此,提出的算法能夠在有效保證面形收斂精度的同時(shí)快速獲得穩(wěn)定可靠的駐留時(shí)間分布,為磁流變拋光應(yīng)用于大口徑光學(xué)元件提供有力支持。
【作者單位】： 中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所;中國(guó)科學(xué)院大學(xué);
【關(guān)鍵詞】： 光學(xué)制造 駐留時(shí)間 矩陣運(yùn)算 全局收斂 磁流變拋光
【基金】：國(guó)家自然科學(xué)基金(61036015)
【分類號(hào)】：TH74
【正文快照】： 1引言磁流變拋光(MRF)是一種高效確定性的光學(xué)加工工藝[1],具有去除函數(shù)穩(wěn)定、下表面破壞層小、邊緣效應(yīng)小,無(wú)復(fù)印效應(yīng)、加工精度高及修形能力強(qiáng)0522001-1等諸多優(yōu)點(diǎn)[2-7]。因此,磁流變拋光在高精度光學(xué)表面加工中有著廣泛的應(yīng)用。但是磁流變拋光實(shí)際應(yīng)用于大口徑光學(xué)表面的加

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本文編號(hào)：1050004