本文關鍵詞：一維相移剪切干涉儀的調制度函數(shù)分析

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【摘要】：為了分析一維相移剪切干涉儀中調制度的變化規(guī)律和影響。研究了一維光柵相移剪切干涉儀的基本原理,推導了干涉光強公式和光強調制度函數(shù)。通過將澤尼克單項像差代入到調制度函數(shù)因子,分析了澤尼克像差、剪切比對調制度函數(shù)的影響,發(fā)現(xiàn)測量范圍主要受到高級球差和大剪切比限制。設計了一維相移剪切干涉儀的可見光實驗裝置,在632.8 nm波長分別使用周期為9 mm、18 mm一維光柵測量了一個NA=0.25顯微物鏡的波像差,實驗結果表明:光柵周期為18 mm時可以正確測量,光柵周期為9 mm時,調制度存在反轉點,像差超出測量范圍,并驗證調制度函數(shù)分析結果的正確性。
【作者單位】： 中國科學院光電技術研究所;電子科技大學光電信息學院;中國科學院大學;
【關鍵詞】： 測量 相移剪切干涉儀 調制度函數(shù) 波像差
【分類號】：TH744.3
【正文快照】： 1引言波像差是評價光刻投影物鏡性能的一個重要指標,直接影響光刻機整機的分辨率、臨界尺寸、成像對比度,工藝窗口等。目前45 nm節(jié)點光刻投影物鏡的波像差檢測精度需要達到亞納米量級,而且要求能夠實現(xiàn)在線檢測。相位測量干涉法具有檢測速度快、精度高、重復性好、易于集成等

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本文編號：1036595