本文關鍵詞：多層金屬電源線地線網(wǎng)絡拓撲結構的IR-drop分析方法

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【摘要】：提出了一種電源/地線(P/G)網(wǎng)絡壓降(IR-drop)靜態(tài)分析方法.該方法探索了多層金屬立體P/G網(wǎng)絡結構,通過輸入各金屬層的坐標和通孔(Via)的工藝規(guī)則,分析不同多層金屬P/G網(wǎng)絡的拓撲結構對IR-drop的影響.實驗結果表明,文中方法的壓降評估結果與SPICE仿真結果相比有著高度的一致性,平均誤差小于0.4%,且算法時間復雜度與通孔數(shù)目成線性關系.并且指出中間層金屬的拓撲結構對IR-drop的分布和大小有重要影響.
【作者單位】： 中國科學院電子學研究所可編程芯片與系統(tǒng)研究室;中國科學院大學;
【關鍵詞】： 電源/地線網(wǎng)絡 多層 壓降 通孔
【基金】：國家自然科學基金(No.61271149)
【分類號】：TN86
【正文快照】： x引言 ^ ^ IR-drop是影響電源信號完整性的關鍵因素之一,隨著半導體工藝進入深亞微米階段,芯片密度逐漸增加,P/G網(wǎng)絡將承載更大的電流,并且隨著互連線寬減小而導致的電阻增加,更大的IR-drop會對電路的工作性能產(chǎn)生影響, 導致邏輯麟和時鐘偏移,甚至使芯片失效[1’2]. P/G網(wǎng)絡模

【相似文獻】

中國期刊全文數(shù)據(jù)庫 前10條

1 宋光亭;巧鉆超深通孔[J];機械制造;2001年05期

2 周行;不通孔座中壓入庿套的拆卸[J];上海機械;1965年01期

3 方開舜;;鋸管導向模[J];機械工人技術資料;1975年01期

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本文編號：899249