本文關(guān)鍵詞：激光通信系統(tǒng)中多波段濾光片的研究

  更多相關(guān)文章： 多波段濾光片 電子束蒸發(fā) 石英晶控控制 修正因子 殘余蒸鍍量

【摘要】：本課題研制的濾光片主要應(yīng)用于激光通信系統(tǒng)中。針對激光通信系統(tǒng)中光學(xué)系統(tǒng)對濾光片的特殊要求,選取Ti3O5和SiO2分別作為高低折射率薄膜材料,在直徑φ25mm的K9玻璃基底材料上,通過膜系設(shè)計(jì)軟件TFCalc進(jìn)行雙面設(shè)計(jì)。在鍍制過程中,采用電子束加熱蒸發(fā)方式,配合離子輔助淀積技術(shù),利用石英晶控控制法對膜層厚度進(jìn)行監(jiān)控,通過反復(fù)優(yōu)化各項(xiàng)工藝參數(shù),制備出在532nm透過率為97.6%、808nm透過率為0.3%、1064nm透過率為97.8%、1550nm透過率為97.8%的多波段濾光片。在研究過程中,通過修正Tooling Factor解決了光譜曲線向短波漂移的問題;通過去除殘余蒸鍍量,解決了通帶出現(xiàn)波紋的問題。通過各項(xiàng)測試證明,該濾光片滿足光學(xué)系統(tǒng)的使用要求。
【關(guān)鍵詞】：多波段濾光片 電子束蒸發(fā) 石英晶控控制 修正因子 殘余蒸鍍量
【學(xué)位授予單位】：長春理工大學(xué)
【學(xué)位級別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2015
【分類號】：TN929.1
【目錄】：

• 摘要4-5
• ABSTRACT5-7
• 第一章 緒論7-11
• 1.1 現(xiàn)代光學(xué)薄膜的發(fā)展現(xiàn)狀7-8
• 1.2 激光通信的發(fā)展現(xiàn)狀8-9
• 1.3 論文研究的主要內(nèi)容9-11
• 第二章 光學(xué)薄膜的基本理論11-20
• 2.1 光學(xué)薄膜特性的理論計(jì)算11-15
• 2.2 有效界面法15-18
• 2.3 高反射帶帶寬的計(jì)算18-20
• 第三章 多波段濾光片的工藝參數(shù)研究及膜系設(shè)計(jì)20-36
• 3.1 激光通信系統(tǒng)中多波段濾光片的技術(shù)要求20
• 3.2 鍍膜材料的選取20-21
• 3.3 工藝參數(shù)的研究21-23
• 3.4 薄膜材料的折射率和Tooling Factor23-28
• 3.5 多波段濾光片的膜系設(shè)計(jì)28-36
• 第四章 薄膜沉積設(shè)備36-45
• 4.1 真空鍍膜設(shè)備36-37
• 4.2 真空系統(tǒng)37-39
• 4.3 蒸發(fā)技術(shù)39-41
• 4.4 監(jiān)控技術(shù)41-44
• 4.5 測試技術(shù)44-45
• 第五章 多波段濾光片的制備與檢測分析45-52
• 5.1 多波段濾光片的制備工藝流程45-46
• 5.2 實(shí)驗(yàn)過程中遇到的問題與解決方法46-50
• 5.3 激光通信系統(tǒng)中多波段濾光片的測試50-51
• 5.4 環(huán)境測試51-52
• 結(jié)論52-53
• 致謝53-54
• 參考文獻(xiàn)54-55
• 附錄55

【相似文獻(xiàn)】

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本文編號：842387