TFT-LCD產(chǎn)業(yè)中GOA單元不良的研究
本文關(guān)鍵詞:TFT-LCD產(chǎn)業(yè)中GOA單元不良的研究
更多相關(guān)文章: GOA 靜電放電 溝道橋接 溝道開(kāi)裂 顯影效應(yīng)
【摘要】:通過(guò)對(duì)TFT-LCD制造過(guò)程中GOA單元不良原因的研究,提出了改善GOA單元不良的方法。分析表明靜電放電(ESD)的發(fā)生在于電容瞬間釋放的電流過(guò)大,導(dǎo)致過(guò)細(xì)的金屬線熔化;溝道橋接和開(kāi)裂的發(fā)生在于顯影效應(yīng),顯影方向以及圖案密度,導(dǎo)致局部區(qū)域溝道光刻膠厚度偏厚和偏薄。采用靜電分散釋放的連線設(shè)計(jì),ESD的發(fā)生率從5.4%降低到0.04%以下。GOA單元兩側(cè)增加測(cè)試圖樣(Dummy Pattern)的設(shè)計(jì)防止溝道橋接的發(fā)生,減壓干燥(VCD)抽氣曲線的調(diào)整和軟烘(Soft Bake)底部溫度的優(yōu)化措施防止溝道開(kāi)裂的發(fā)生,溝道橋接和開(kāi)裂的發(fā)生率從13.4%降低到1.22%以下。
【作者單位】: 北京京東方顯示技術(shù)有限公司;江南大學(xué)江蘇省食品先進(jìn)制造裝備技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;
【關(guān)鍵詞】: GOA 靜電放電 溝道橋接 溝道開(kāi)裂 顯影效應(yīng)
【分類號(hào)】:TN873.93
【正文快照】: (1.Beijing BOE Display Technology Co.,Lid.,Beijing100176,China;2.Jiangsu Key Laboratory of Advanced Food Manufacturing Equipment and Technology,Jiangnan University,Wuxi 214122,China)1引言隨著薄膜晶體管-液晶顯示器(TFT-LCD)的發(fā)展,液晶產(chǎn)品的競(jìng)爭(zhēng)越來(lái)越激烈,
【參考文獻(xiàn)】
中國(guó)期刊全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前3條
1 劉士奎;王超;楊雪;王冀;杜江峰;;液晶顯示領(lǐng)域之GOA技術(shù)專利分析[J];中國(guó)發(fā)明與專利;2013年06期
2 李欣欣;龍春平;王威;;TFT-LCD工藝與靜電擊穿[J];現(xiàn)代顯示;2007年03期
3 周偉峰;薛建設(shè);金基用;劉翔;明星;郭建;陳旭;閔泰燁;;不同狹縫與遮擋條設(shè)計(jì)對(duì)TFT特性的影響與規(guī)律(英文)[J];液晶與顯示;2011年02期
【共引文獻(xiàn)】
中國(guó)期刊全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前4條
1 黎午升;惠官寶;崔承鎮(zhèn);史大為;郭建;張家祥;薛建設(shè);;相移掩膜應(yīng)用于顯示技術(shù)光刻細(xì)線化的初步研究[J];光電子技術(shù);2014年04期
2 毛聯(lián)波;向賢明;張俊瑞;張少楠;高剛;馬艷艷;;TFT-LCD制程中ITO殘留的產(chǎn)生與控制[J];現(xiàn)代顯示;2007年11期
3 黎午升;惠官寶;崔承鎮(zhèn);史大為;郭建;孫雙;薛建設(shè);;在鏡像投影曝光機(jī)上使用相移掩膜提高解像力的初步研究[J];液晶與顯示;2014年04期
4 劉志軍;;GOA型TFT LCD產(chǎn)品Shorting Bar Testing工序燒傷現(xiàn)象研究[J];液晶與顯示;2015年01期
中國(guó)碩士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前3條
1 申毅;TFT-LCD產(chǎn)品評(píng)價(jià)過(guò)程FMEA應(yīng)用研究[D];天津大學(xué);2007年
2 張立榮;面向AMOLED應(yīng)用的氧化鋅基TFT集成電路研究[D];華南理工大學(xué);2012年
3 肖光輝;FMEA在TFT LCD研發(fā)項(xiàng)目技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)管理上的研究及實(shí)現(xiàn)[D];中國(guó)科學(xué)院大學(xué)(工程管理與信息技術(shù)學(xué)院);2013年
【二級(jí)參考文獻(xiàn)】
中國(guó)期刊全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前7條
1 Sweta Dash,彭增輝;TFT-LCD生產(chǎn)線是否越大越好?[J];現(xiàn)代顯示;2005年02期
2 沈奕,邱育明,蔡友慶,楊柳根;LCD制程中熱處理對(duì)ITO膜電學(xué)和光學(xué)性質(zhì)的影響[J];現(xiàn)代顯示;2005年03期
3 李宏彥,楊久霞,呂艷英,陳軍,南永卓,吳桔生;TFT-LCD用彩色濾光片[J];現(xiàn)代顯示;2005年06期
4 季國(guó)平;中國(guó)TFT-LCD產(chǎn)業(yè)的發(fā)展[J];現(xiàn)代顯示;2005年08期
5 鄭圣德;第五代TFT-LCD的制屏工藝[J];現(xiàn)代顯示;2005年08期
6 彭志龍;王威;;關(guān)于TFT-LCD工藝過(guò)程中ESD改善的研究[J];現(xiàn)代顯示;2006年09期
7 邵喜斌,王麗娟,李梅;a-Si∶H TFT亞閾值區(qū)SPICE模型的研究[J];液晶與顯示;2005年04期
,本文編號(hào):711066
本文鏈接:http://sikaile.net/kejilunwen/wltx/711066.html