發(fā)布時間：2017-06-24 20:12

  本文關(guān)鍵詞：高精度光延遲線設(shè)計(jì)及應(yīng)用研究，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

【摘要】：光延遲技術(shù)在相控陣?yán)走_(dá)光移相網(wǎng)絡(luò)中的應(yīng)用解決了傳統(tǒng)相控陣天線的孔徑效應(yīng)和波束偏斜現(xiàn)象問題,突破了電子波束形成系統(tǒng)工作頻率和帶寬的限制。光延遲技術(shù)的延時精度和損耗一致性影響波束形成的指向精度和抗干擾性能,是其關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo)�；诠饫w、高色散光纖以及光纖光柵等的延遲技術(shù)方案由于延時精度、系統(tǒng)結(jié)構(gòu)、體積和成本等方面的限制不能滿足相控陣天線在更高工作頻率、更高精度、更大帶寬、更小體積重量等方面的發(fā)展要求。而基于硅基光波導(dǎo)的光延遲技術(shù)由于波導(dǎo)工藝的優(yōu)勢不僅具有精度高、體積小、重量輕等特點(diǎn),還具有結(jié)構(gòu)緊湊、穩(wěn)定性好、便于規(guī)模制造等優(yōu)勢,是目前最具有應(yīng)用發(fā)展?jié)摿Φ墓庋舆t技術(shù)平臺。本文在基于硅基光波導(dǎo)的高精度、小體積、低損耗延遲方案結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)方面做了一定的研究。為基于螺旋形硅基光波導(dǎo)和Y分支光波導(dǎo)的延遲技術(shù)方案設(shè)計(jì)提供了一定的理論基礎(chǔ)、可供參考的設(shè)計(jì)方法以及可供參考的延遲技術(shù)方案。本文首先在光控相控陣?yán)走_(dá)中的光延遲技術(shù)應(yīng)用背景下,介紹了幾種典型的光延遲技術(shù)方案和光延遲技術(shù)的發(fā)展?fàn)顩r,并基于硅基光波導(dǎo)延遲技術(shù)方案在精度、體積、結(jié)構(gòu)、成本等方面的優(yōu)勢介紹了硅基光波導(dǎo)的一些現(xiàn)狀。然后在相控陣波束形成理論和統(tǒng)計(jì)理論基礎(chǔ)上,分析了光延遲技術(shù)的延時精度和損耗一致性對相控陣天線波束形成的指向精度和電平性能的影響。然后介紹了等效折射率法的理論分析方法和有限差分束傳播法的數(shù)值分析方法以及透明邊界條件,在此基礎(chǔ)上應(yīng)用Rsoft和Matlab軟件仿真分析了SOI、Si3N4脊形波導(dǎo)以及SiO2矩形波導(dǎo)的結(jié)構(gòu)參數(shù)及材料參數(shù)對彎曲輻射損耗的影響,分析了脊形彎曲波導(dǎo)結(jié)構(gòu)參數(shù)對色散的影響,以及平行同向傳輸?shù)腟OI、Si3N4脊形波導(dǎo)和SiO2矩形波導(dǎo)間隔對其耦合長度的影響。最后在以上基礎(chǔ)上完成了一個基于螺旋形Si3N4脊形光波導(dǎo)延遲線和級聯(lián)Y分支光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的2bit高精度無源光延遲技術(shù)方案設(shè)計(jì),并給出了具體的結(jié)構(gòu)參數(shù),螺旋形波導(dǎo)中心半徑為2mm,螺旋中心外波導(dǎo)間隔為6μm,螺旋形波導(dǎo)中心彎曲損耗為0.2dB,Y分支光波導(dǎo)損耗共3dB,在1550nm波長處的色散值為3.147ps/nm.km,各通道不僅具有良好的損耗一致性,而且利用波導(dǎo)光刻技術(shù)其延時精度可達(dá)亞ps級別,延時5ns的延遲線長0.7571m占用面積僅98.5mm2,3m長的延遲線也只需206.6mm2的面積。
【關(guān)鍵詞】：光延遲技術(shù) 硅基光波導(dǎo) 螺旋形光波導(dǎo) Y分支光波導(dǎo)
【學(xué)位授予單位】：電子科技大學(xué)
【學(xué)位級別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2015
【分類號】：TN958.92
【目錄】：

• 摘要5-6
• ABSTRACT6-10
• 第一章 緒論10-21
• 1.1 光延遲技術(shù)的應(yīng)用背景10-12
• 1.2 光延遲技術(shù)的分類12-16
• 1.3 光延遲技術(shù)的發(fā)展情況16-18
• 1.4 高精度光延遲技術(shù)18-19
• 1.5 本文的主要貢獻(xiàn)與創(chuàng)新19-20
• 1.6 本文的結(jié)構(gòu)安排20-21
• 第二章 高精度光實(shí)時延遲關(guān)鍵技術(shù)分析21-27
• 2.1 相位誤差和幅度誤差21-22
• 2.2 延時誤差對波束性能的影響22-25
• 2.3 損耗一致性對波束性能的影響25-26
• 2.4 本章小結(jié)26-27
• 第三章 光波導(dǎo)理論基礎(chǔ)27-41
• 3.1 光波導(dǎo)的波動方程與色散方程27-30
• 3.1.1 波動方程28-29
• 3.1.2 色散方程29-30
• 3.2 等效折射率法和單模傳輸條件分析30-35
• 3.2.1 等效折射率法30-33
• 3.2.2 單模傳輸條件33-35
• 3.3 光波導(dǎo)的數(shù)值模擬方法35-40
• 3.3.1 有限差分束傳播法36-38
• 3.3.2 透明邊界條件38-40
• 3.4 本章小結(jié)40-41
• 第四章 光波導(dǎo)的設(shè)計(jì)與仿真41-67
• 4.1 光波導(dǎo)的材料和結(jié)構(gòu)41-43
• 4.2 仿真模型的分析與建立43-46
• 4.3 彎曲光波導(dǎo)的損耗仿真分析46-59
• 4.3.1 SOI和Si3N4脊形光波導(dǎo)的彎曲損耗仿真分析46-55
• 4.3.1.1 曲率半徑對光波導(dǎo)彎曲損耗影響的仿真47-50
• 4.3.1.2 橫截面尺寸對光波導(dǎo)彎曲損耗影響的仿真50-54
• 4.3.1.3 折射率差對光波導(dǎo)彎曲損耗影響的仿真54-55
• 4.3.2 SiO2矩形光波導(dǎo)的彎曲損耗仿真分析55-59
• 4.3.2.1 曲率半徑對光波導(dǎo)彎曲損耗影響的仿真56-57
• 4.3.2.2 橫截面尺寸對光波導(dǎo)彎曲損耗影響的仿真57-58
• 4.3.2.3 折射率差對光波導(dǎo)彎曲損耗影響的仿真58-59
• 4.4 彎曲光波導(dǎo)的色散仿真分析59-62
• 4.5 平行同向光波導(dǎo)的耦合仿真分析62-66
• 4.6 本章小結(jié)66-67
• 第五章 光波導(dǎo)延遲線的設(shè)計(jì)67-76
• 5.1 光波導(dǎo)延遲線的材料67-68
• 5.2 光波導(dǎo)的截面結(jié)構(gòu)尺寸68
• 5.3 光波導(dǎo)延遲線的結(jié)構(gòu)68-69
• 5.4 螺旋形光波導(dǎo)的曲率半徑69-70
• 5.5 螺旋中心外的波導(dǎo)間隔70
• 5.6 光波導(dǎo)延遲路徑的選擇70-74
• 5.7 本章小結(jié)74-76
• 第六章 總結(jié)與展望76-78
• 致謝78-79
• 參考文獻(xiàn)79-83

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本文編號：479366