陣列基板周邊設(shè)計(jì)對(duì)聚酰亞胺液擴(kuò)散的影響
發(fā)布時(shí)間:2021-11-02 05:50
為提高產(chǎn)能,筆記本電腦超高級(jí)超維場(chǎng)開(kāi)關(guān)(HADS)顯示產(chǎn)品的聚酰亞胺(PI)膜涂布方式從滾筒涂布的感光樹(shù)脂轉(zhuǎn)印版(APR)轉(zhuǎn)印變更為噴墨打印,涂布方式的變更造成了PI液滴在面板周邊Vcom過(guò)孔和走線密集處擴(kuò)散困難,難以擴(kuò)散的PI液滴在面板邊緣聚集形成周邊黑線不良。首先,通過(guò)變更PVX(passivation SiNx,鈍化層)掩膜版解決Vcom過(guò)孔周邊PI液擴(kuò)散不均問(wèn)題,即通過(guò)改變面板周邊過(guò)孔周期、尺寸以及距離像素區(qū)間距來(lái)減小過(guò)孔存在的影響,GP(Gate pad)側(cè)過(guò)孔數(shù)量變?yōu)樵瓉?lái)1/8,過(guò)孔面積比原來(lái)減小了98%,DP (Date pad)側(cè)過(guò)孔數(shù)量變?yōu)樵瓉?lái)的1/9,過(guò)孔面積比原來(lái)減小99%,同時(shí)DP側(cè)過(guò)孔與像素區(qū)間距增大60%,PVX掩膜版變更極大地改善了PI液滴在過(guò)孔周圍的擴(kuò)散均勻性,最終周邊黑線發(fā)生率從100%減小為6.6%。其次,通過(guò)變更噴墨打印涂布工藝來(lái)減小面板周邊PI液積聚程度,我們開(kāi)發(fā)出噴墨打印邊緣補(bǔ)正功能,即保持像素區(qū)膜厚不變,面板邊緣區(qū)域膜厚減少。邊緣區(qū)域PI液的減少降低了該區(qū)域PI液積聚的可能性,...
【文章來(lái)源】:液晶與顯示. 2020,35(03)北大核心CSCD
【文章頁(yè)數(shù)】:6 頁(yè)
【文章目錄】:
1 引言
2 實(shí)驗(yàn)
2.1 HADS面板制備
2.2 設(shè)備與測(cè)試
3 結(jié)果與討論
3.1 周邊黑線不良分析
3.2 周邊黑線不良解決方案
3.2.1 PVX掩膜版變更方案
3.2.2 噴墨打印涂布方案變更
4 結(jié)論
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]周邊配向膜Mura改善研究[J]. 徐長(zhǎng)健,陸順沙,馬國(guó)靖,王丹,任錦宇,周波,宋勇志,陳維濤,馮莎. 液晶與顯示. 2018(10)
[2]窄邊框產(chǎn)品周邊配向膜Mura分析及改善研究[J]. 王海成,申載官,劉萌,史秋飛,封賓,文斌. 電子世界. 2018(10)
[3]陣列基板設(shè)計(jì)對(duì)配向膜印刷的影響[J]. 趙成明,王丹,馬國(guó)靖,羅會(huì)月,申載官,宋勇志. 液晶與顯示. 2016(02)
[4]液晶顯示器中液晶分子取向膜邊緣的輪廓[J]. 范志新,潘良玉,孫玉寶,李志廣. 光學(xué)技術(shù). 2003(02)
本文編號(hào):3471462
【文章來(lái)源】:液晶與顯示. 2020,35(03)北大核心CSCD
【文章頁(yè)數(shù)】:6 頁(yè)
【文章目錄】:
1 引言
2 實(shí)驗(yàn)
2.1 HADS面板制備
2.2 設(shè)備與測(cè)試
3 結(jié)果與討論
3.1 周邊黑線不良分析
3.2 周邊黑線不良解決方案
3.2.1 PVX掩膜版變更方案
3.2.2 噴墨打印涂布方案變更
4 結(jié)論
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]周邊配向膜Mura改善研究[J]. 徐長(zhǎng)健,陸順沙,馬國(guó)靖,王丹,任錦宇,周波,宋勇志,陳維濤,馮莎. 液晶與顯示. 2018(10)
[2]窄邊框產(chǎn)品周邊配向膜Mura分析及改善研究[J]. 王海成,申載官,劉萌,史秋飛,封賓,文斌. 電子世界. 2018(10)
[3]陣列基板設(shè)計(jì)對(duì)配向膜印刷的影響[J]. 趙成明,王丹,馬國(guó)靖,羅會(huì)月,申載官,宋勇志. 液晶與顯示. 2016(02)
[4]液晶顯示器中液晶分子取向膜邊緣的輪廓[J]. 范志新,潘良玉,孫玉寶,李志廣. 光學(xué)技術(shù). 2003(02)
本文編號(hào):3471462
本文鏈接:http://sikaile.net/kejilunwen/wltx/3471462.html
最近更新
教材專著