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陣列基板周邊設(shè)計(jì)對聚酰亞胺液擴(kuò)散的影響

發(fā)布時(shí)間:2021-11-02 05:50
  為提高產(chǎn)能,筆記本電腦超高級超維場開關(guān)(HADS)顯示產(chǎn)品的聚酰亞胺(PI)膜涂布方式從滾筒涂布的感光樹脂轉(zhuǎn)印版(APR)轉(zhuǎn)印變更為噴墨打印,涂布方式的變更造成了PI液滴在面板周邊Vcom過孔和走線密集處擴(kuò)散困難,難以擴(kuò)散的PI液滴在面板邊緣聚集形成周邊黑線不良。首先,通過變更PVX(passivation SiNx,鈍化層)掩膜版解決Vcom過孔周邊PI液擴(kuò)散不均問題,即通過改變面板周邊過孔周期、尺寸以及距離像素區(qū)間距來減小過孔存在的影響,GP(Gate pad)側(cè)過孔數(shù)量變?yōu)樵瓉?/8,過孔面積比原來減小了98%,DP (Date pad)側(cè)過孔數(shù)量變?yōu)樵瓉淼?/9,過孔面積比原來減小99%,同時(shí)DP側(cè)過孔與像素區(qū)間距增大60%,PVX掩膜版變更極大地改善了PI液滴在過孔周圍的擴(kuò)散均勻性,最終周邊黑線發(fā)生率從100%減小為6.6%。其次,通過變更噴墨打印涂布工藝來減小面板周邊PI液積聚程度,我們開發(fā)出噴墨打印邊緣補(bǔ)正功能,即保持像素區(qū)膜厚不變,面板邊緣區(qū)域膜厚減少。邊緣區(qū)域PI液的減少降低了該區(qū)域PI液積聚的可能性,... 

【文章來源】:液晶與顯示. 2020,35(03)北大核心CSCD

【文章頁數(shù)】:6 頁

【文章目錄】:
1 引言
2 實(shí)驗(yàn)
    2.1 HADS面板制備
    2.2 設(shè)備與測試
3 結(jié)果與討論
    3.1 周邊黑線不良分析
    3.2 周邊黑線不良解決方案
        3.2.1 PVX掩膜版變更方案
        3.2.2 噴墨打印涂布方案變更
4 結(jié)論


【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]周邊配向膜Mura改善研究[J]. 徐長健,陸順沙,馬國靖,王丹,任錦宇,周波,宋勇志,陳維濤,馮莎.  液晶與顯示. 2018(10)
[2]窄邊框產(chǎn)品周邊配向膜Mura分析及改善研究[J]. 王海成,申載官,劉萌,史秋飛,封賓,文斌.  電子世界. 2018(10)
[3]陣列基板設(shè)計(jì)對配向膜印刷的影響[J]. 趙成明,王丹,馬國靖,羅會月,申載官,宋勇志.  液晶與顯示. 2016(02)
[4]液晶顯示器中液晶分子取向膜邊緣的輪廓[J]. 范志新,潘良玉,孫玉寶,李志廣.  光學(xué)技術(shù). 2003(02)



本文編號:3471462

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