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OLED顯示屏缺陷檢測(cè)算法的研究與實(shí)現(xiàn)

發(fā)布時(shí)間:2020-07-13 02:17
【摘要】:隨著信息顯示技術(shù)的不斷發(fā)展,越來越多的顯示屏制造廠商開始投入資金批量生產(chǎn)OLED顯示屏。為了防止不理想的OLED產(chǎn)品流入市場(chǎng),需要檢測(cè)OLED顯示屏面板上是否存在缺陷。目前,專業(yè)質(zhì)檢人員的人眼檢測(cè)為主要的缺陷檢測(cè)模式。這種模式需要較高的人力成本,而且不同的質(zhì)檢人員針對(duì)同一面板的檢測(cè)結(jié)果常常不一致。為了滿足工廠大規(guī)模生產(chǎn)的需求,研究出相應(yīng)的自動(dòng)缺陷檢測(cè)算法,讓機(jī)器視覺代替人眼檢測(cè)已成為一個(gè)緊迫的任務(wù)。OLED顯示屏在制作過程中主要會(huì)存在點(diǎn)缺陷、線缺陷和面缺陷(Mura缺陷)這三類缺陷。本文根據(jù)三類缺陷的各自不同特點(diǎn),分別提出了各類缺陷的檢測(cè)和分類方法,改進(jìn)了相關(guān)的已有算法。本文主要的研究?jī)?nèi)容及貢獻(xiàn)如下:(1)基于面板圖像自身的周期性,提出了一種鄰域差分算法。該算法能夠有效地抑制背景紋理的干擾并提取出點(diǎn)類缺陷。該方法有效地解決了已有算法對(duì)小缺陷不敏感而產(chǎn)生的漏檢問題。(2)在鄰域差分算法的基礎(chǔ)上進(jìn)一步提出了一種投影線的方法。該方法能夠準(zhǔn)確地提取線類缺陷,有效地改進(jìn)了已有算法的檢測(cè)精度。(3)提出了基于缺陷增強(qiáng)及曲面擬合的背景重構(gòu)方法,可以重構(gòu)得到“無缺陷”的背景圖像。通過計(jì)算背景圖像與增強(qiáng)后圖像的殘差以及根據(jù)殘差是否滿足Mura缺陷的定量化特征,從中篩選出真正的缺陷。該算法可以在背景不均勻的情況下提取出微弱的Mura缺陷,并達(dá)到較高的準(zhǔn)確率。(4)設(shè)計(jì)了基于遷移學(xué)習(xí)的分類方法對(duì)Mura缺陷進(jìn)行分類。該方法可以用較少的訓(xùn)練樣本完成模型的建立。實(shí)驗(yàn)表明該方法的準(zhǔn)確率較高,可以應(yīng)用于實(shí)際的工業(yè)生產(chǎn)。本文的方法已經(jīng)在試驗(yàn)中被大量實(shí)際數(shù)據(jù)所驗(yàn)證,展示了很好的效果。
【學(xué)位授予單位】:上海交通大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2018
【分類號(hào)】:TN873.93;TP391.41
【圖文】:

市場(chǎng)空間,面板,顯示屏,毫秒級(jí)


反應(yīng)速度 微秒級(jí)別 毫秒級(jí)別視角 180 度 160 度,有色偏問題耗電性 低 高(背光固定開啟)色域 70-100% 56-95%操作溫度 -40-100℃ -30-80℃厚度/重量 mm/輕 cm/重壽命 5000-30000 小時(shí) >5000 小時(shí)所以 OLED 顯示屏在不久的將來,有望替代現(xiàn)有 TFT-LCD 顯示屏,成為最主流的顯示產(chǎn)品。根據(jù)智研咨詢發(fā)布的《2017-2022 年中國(guó) OLED 行業(yè)深度調(diào)研及發(fā)展趨勢(shì)研究報(bào)告》顯示,2015 年我國(guó) OLED 市場(chǎng)約為 400 億,預(yù)計(jì)在 2020年的時(shí)候增長(zhǎng)至 990 億左右,年均增速可達(dá) 20%。

出貨量,面板,優(yōu)點(diǎn),顯示屏


圖 1-2 OLED 面板出貨量走勢(shì)Fig.1-2 The trend of OLED panel shipment雖然 OLED 有很多的優(yōu)點(diǎn),但是在實(shí)際量產(chǎn)上面卻有著很多的困難,最大的問題在于良率不高。根據(jù)資料《2017 全球 OLED 產(chǎn)業(yè)研究報(bào)告》顯示,目前TFT-LCD 顯示屏的良率可達(dá) 90%以上,而剛性 OLED 顯示屏的良率一般在 80左右,柔性 OLED 顯示屏的良率則更低,只有 60%左右。造成良率不高的原因可分成氧化銦(In2O3)面板的“Array 制程”、“有機(jī)膜形成”以及“封裝技術(shù)的缺陷。學(xué)術(shù)界針對(duì)這些技術(shù)領(lǐng)域在不斷進(jìn)行研究,希望針對(duì)工業(yè)界量產(chǎn)問題提出有效的改善方案,但是,目前業(yè)界對(duì)于檢測(cè) OLED 缺陷并未提出一套有效的標(biāo)準(zhǔn),所以如果能夠從實(shí)際的 OLED 成品中執(zhí)行檢測(cè),并因此分析出可能產(chǎn)生缺陷的制作過程,這無疑可以有效地改善 OLED 的制作過程,同時(shí)也能夠保證出貨產(chǎn)品的質(zhì)量。1.2 研究目的

樣圖,樣圖,面缺陷,線缺陷


圖 1-3 (a)點(diǎn)缺陷樣圖 (b)線缺陷樣圖 (c)面缺陷樣圖Fig.1-3 (a)Point defect sample (b)Line defect sample (c)Surface defect sample在 OLED 缺陷的檢測(cè)中,Mura 缺陷的檢測(cè)是設(shè)計(jì)上的難點(diǎn)。因?yàn)?Mura 很統(tǒng)一的標(biāo)準(zhǔn),通過不同的人檢測(cè)判斷可能給出的檢測(cè)結(jié)果不同。Mura 缺陷質(zhì)是面板上低對(duì)比度的亮度不均一的區(qū)域。Mura 檢測(cè)的核心思想就是將低度區(qū)域分割出來并進(jìn)行定量化,進(jìn)而對(duì)比判定該區(qū)域是否存在缺陷,F(xiàn)階段多種 Mura 缺陷自動(dòng)檢測(cè)算法被提出。Xin Bi 等人[16]提出了一種使用水平集行圖像分割的方法來檢測(cè)缺陷;盧小鵬等人[17]改進(jìn)了 Chan-Vese 模型來實(shí)現(xiàn)ura 缺陷的快速分割;Yu-Bin Yang 等人[18]使用奇異值分解和離散余弦變換構(gòu)背景圖像,計(jì)算出差異圖后再檢出缺陷;Xin Bi 等人[19]利用實(shí) Gabor 濾波增強(qiáng) Mura 缺陷;Hao-Chiang Shao[20]提出了一種從低對(duì)比度圖像中去除相對(duì)成分的算法來減少對(duì)圖像增強(qiáng)的干擾;Du-Ming Tsai 等人[21]把要檢測(cè)的圖像些基本圖像的線性組合去表示,而其系數(shù)就可以反映出 Mura 缺陷,在此基[22]

【參考文獻(xiàn)】

相關(guān)期刊論文 前10條

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本文編號(hào):2752810

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