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用于AC-PDP保護層的六硼化鑭薄膜的制備與性能研究

發(fā)布時間:2018-09-10 13:29
【摘要】:采用絲網(wǎng)印刷法在PDP的傳統(tǒng)Mg O保護層上制備了六硼化鑭薄膜。改變工藝參數(shù),測試了La B6/Mg O薄膜的表面形貌和光學性能,并對透明的La B6/Mg O薄膜在Xe/Ne混合氣體中的放電性能進行了測試。實驗結(jié)果表明,采用400目絲網(wǎng)和球磨后的La B6粉末有利于提高La B6/Mg O薄膜的透過率,相比于原有的Mg O襯底,透過率達到90%以上。放電測試結(jié)果表明,印刷了La B6薄膜的Mg O+La B6樣品的放電性能優(yōu)于傳統(tǒng)的Mg O保護層,其中著火電壓降低了7%左右,放電延遲降低了9%左右。
[Abstract]:La B6/Mg O thin films were prepared by screen printing on the traditional Mg O protective layer of PDP. The surface morphology and optical properties of La B6/Mg O thin films were measured by changing the process parameters. The discharge performance of transparent La B6/Mg O thin films in Xe/Ne mixed gas was tested. The results showed that the La B6 thin films were prepared by 400 mesh screen and ball milling. Compared with the original Mg O substrate, the transmittance of La B6/Mg O thin films is over 90%. The results of discharge test show that the discharge performance of Mg O+La B6 samples printed with La B6 thin films is better than that of the traditional Mg O protective layer, in which the ignition voltage is reduced by about 7% and the discharge delay is reduced by about 9%.
【作者單位】: 電子科技大學光電信息學院;
【基金】:中央高?蒲谢緲I(yè)務(wù)費項目(ZYGX2010J062) 四川省科技創(chuàng)新苗子工程項目
【分類號】:TN873.94

【參考文獻】

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【共引文獻】

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