本文選題：透明導電膜 + 金屬網柵��； 參考：《光學精密工程》2015年03期

【摘要】：為尋求準確評估薄膜型金屬網柵電磁屏蔽效能的方法,探索了薄膜型金屬網柵在某頻段可達到的電磁屏蔽效能。首先,分析了金屬網柵膜光電特性常用的計算公式,指出電特性公式中材料無限導電的假定條件與客觀事實不符,故其無法準確預估薄膜型金屬網柵的電磁屏蔽效能。然后,根據(jù)屏蔽效能受感應電壓和電阻比控制的理論,借鑒連續(xù)導電膜用方塊電阻計算屏蔽效能的方法,提出了預估薄膜型金屬網柵屏蔽效能的方法并給出了具體步驟。最后,采用激光直寫工藝流程制備了薄膜型金屬網柵,驗證了理論計算結果與實驗檢測結果的一致性。檢測結果顯示:薄膜型金屬網柵試片在30~1 500MHz的屏蔽效能最高為30dB;用檢測方塊電阻并代入連續(xù)膜經驗公式計算得到的屏蔽效能為31.2dB,用金屬網柵膜常用公式計算得到的屏蔽效能為75dB。數(shù)據(jù)顯示用金屬網柵膜常用電特性公式無法準確評估薄膜型金屬網柵的電磁屏蔽效能,而本文所提方法便捷、準確、可行。
[Abstract]:In order to find an accurate method to evaluate the electromagnetic shielding effectiveness of the thin film metal grid, the electromagnetic shielding effectiveness of the thin film metal mesh is explored in a certain frequency band. Firstly, the common calculation formulas for the photoelectric characteristics of metal grid film are analyzed, and it is pointed out that the assumption of infinite conductive material in the formula does not agree with the objective facts, so it can not accurately predict the electromagnetic shielding effectiveness of the thin metal grid. Then, according to the theory that the shielding effectiveness is controlled by inductive voltage and resistance ratio, a method of estimating the shielding effectiveness of thin film metal mesh gate is proposed and the concrete steps are given by referring to the method of calculating shielding effectiveness by using square resistance of continuous conductive film. Finally, the thin film metal grid is fabricated by laser direct writing process, which verifies the agreement between the theoretical calculation results and the experimental results. The results show that the shielding efficiency of the thin film metal mesh gate is up to 30 dB at 30 ~ 1 500 MHz, the shielding efficiency calculated by the empirical formula of measuring the square resistance and the continuous film is 31.2dB, and the shielding efficiency calculated by the common formula of metal mesh gate film is 75 dB. The data show that the electromagnetic shielding efficiency of the thin metal grid can not be accurately evaluated by the formula of the constant electrical characteristics of the metal grid film, but the method proposed in this paper is convenient, accurate and feasible.
【作者單位】： 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所中國科學院光學系統(tǒng)先進制造技術重點實驗室;
【基金】：國家自然科學基金面上項目(No.61172012)
【分類號】：TN972

【參考文獻】

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【共引文獻】

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本文編號：2028121