發(fā)布時(shí)間：2017-10-21 07:51

  本文關(guān)鍵詞：調(diào)制中頻高功率脈沖磁控濺射電源的設(shè)計(jì)

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【摘要】：文章指出疊加直流的HPPMS技術(shù)有直流部分占空比較高和不可控制2大缺點(diǎn),在做沉積薄膜實(shí)驗(yàn)時(shí)無法提供濺射所需的高功率,導(dǎo)致空比較低,濺射效率稍低的高功率脈沖產(chǎn)生。為了解決問題,需要研制一臺(tái)電源,并且該電源可以用中頻調(diào)制脈沖高功率磁控濺射MPP(Modulated pulsed power),普通高功率磁控濺射系統(tǒng)中的直流部分可以用低頻脈沖來代替,盡可能減少低頻脈沖占空比并且可以確保充分預(yù)處理,使高功率脈沖占空比盡可能最大,提高系統(tǒng)的濺射效率。
【作者單位】： 裝甲兵技術(shù)學(xué)院通信教研室;
【關(guān)鍵詞】： 調(diào)制脈沖 磁控濺射 HPPMS MPP
【分類號(hào)】：TN86
【正文快照】： 近年來,國外發(fā)展了HPPMS(高功率脈沖磁控濺射)技術(shù),并且這種技術(shù)具備一定高的離化率和很好的薄膜性能,因此在技術(shù)領(lǐng)域有一定的影響力。HPPMS的峰值功率高出普通磁控濺射達(dá)2個(gè)數(shù)量級(jí);濺射材料離化率更是高達(dá)70%以上。高功率脈沖磁控濺射技術(shù)目前在國內(nèi)外得到了廣泛的研究。本文

【參考文獻(xiàn)】

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【相似文獻(xiàn)】

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2 楊p，

本文編號(hào)：1072156