發(fā)布時間：2024-03-04 23:34

　　基于土工膜缺陷探測的雙電極法,建立傾斜坡面含缺陷土工膜的三維有限元計算模型,獲得土工膜表面缺陷附近的電位分布,分析不同探測線方向上的電位分布規(guī)律,探究探測線方向和位置對土工膜缺陷探測靈敏度的影響。結果表明:主電極的埋設位置應遠離缺陷,以避免主電極對缺陷的屏蔽作用;當探測線垂直于缺陷和主電極連線時,探測線與缺陷中心距離不宜超過0.2 m;當探測線平行于缺陷和主電極連線時,探測線與缺陷中心距離不宜超過0.1 m。

【文章頁數】：5 頁

【部分圖文】：

圖1計算模型簡圖(單位:m)

圖1為傾斜坡面含缺陷土工膜的三維有限元計算模型。土工膜按坡比1∶1.73傾斜鋪設,厚度為2mm,在中心位置設置一直徑10mm的缺陷孔。膜下飽和土層的最大厚度為5.3m,最小厚度為0.8m。膜上覆蓋有水層,最大水深為5.1m,最小水深為0.6m。飽和土層和水的電阻率分別....

圖2不同電極位置組合時膜上電位分布(單位:V)

2.2膜上電位分布特征圖2給出了不同主電極和反饋電極組合方式下(方案a、b和c)土工膜表面的電位分布等值線。由圖2可知,膜上電位從主電極向缺陷處逐漸降低,并在主電極和缺陷附近表現出較大的電位梯度,而在遠離主電極和缺陷的膜上電位基本為一定值。對比圖2(a)和2(b)可知,膜上電位....

圖3探測線垂直于缺陷和主電極連線下電極電位差變化

探測線最佳布置理論上應垂直或平行于缺陷和主電極的連線,如圖2所示。以方案a為例,對不同探測線方向上的電位分布進行分析。圖2(a)中紅色探測線(x=4.5m)為一條通過缺陷中心的垂直于缺陷和主電極連線的探測線,其中相鄰探測點間的間距S=0.5m。當探測電極逐漸靠近缺陷時,探....

圖4探測線平行于缺陷和主電極連線下電極電位差變化

圖2(a)中藍色探測線(y=2.5m)為一條通過缺陷中心的平行于缺陷和主電極連線的探測線,其中相鄰探測點間的間距S=0.5m。繪制電位差分布曲線,電位差分布在缺陷兩側會出現一個波峰和一個波谷,同時在主電極兩側也出現波峰和波谷,如圖4所示。因此實際工程探測過程中,為了避免電極附....

本文編號：3919340