聚酰胺-胺(PAMAM)樹狀大分子的合成與硅阻垢性能研究
發(fā)布時間:2023-08-18 18:40
以乙二胺、丙烯酸甲酯為原料,合成了0.5~2.0代樹枝狀大分子聚酰胺-胺(PAMAM)。并通過紅外譜圖和核磁譜圖分析、驗證了合成產(chǎn)品的結(jié)構(gòu)。采用靜態(tài)阻硅垢實驗考察了在60℃下,0.5~2.0G PAMAM對模擬三元復(fù)合驅(qū)體系含硅溶液的阻硅垢效果,實驗結(jié)果表明,24 h后空白溶液中溶解硅的質(zhì)量濃度為210 mg/L左右,加入1.0G PAMAM后溶解硅的質(zhì)量濃度分別提高到500 mg/L左右。通過掃描電子顯微鏡(SEM)和X射線衍射(XRD)分析了含硅溶液空白硅垢和添加了1.0G PAMAM硅垢,通過實驗結(jié)果推斷,含端氨基的1.0G與2.0G產(chǎn)品的阻硅垢機理是阻礙了液體中硅垢晶體生長過程。
【文章頁數(shù)】:6 頁
【文章目錄】:
1 實驗部分
1.1 原料與儀器
1.2 PAMAM的合成
1.2.1 0.5G PAMAM的合成
1.2.2 1.0 G PAMAM的合成
1.2.3 產(chǎn)品的純化
1.3 產(chǎn)品的紅外和核磁譜圖分析
1.4 產(chǎn)品對模擬三元復(fù)合驅(qū)體系硅酸鹽垢的阻硅垢性能評價
1.5 硅垢的掃描電子顯微鏡(SEM)和X射線衍射(XRD)分析
2 結(jié)果與討論
2.1 PAMAM的紅外譜圖分析
2.2 PAMAM的核磁譜圖分析
2.3 擬三元復(fù)合驅(qū)體系硅酸鹽垢的阻垢效果
2.4 對硅垢的掃描電子顯微鏡(SEM)分析
2.5 對硅垢的X射線衍射(XRD)分析
3 結(jié) 論
本文編號:3842736
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【文章目錄】:
1 實驗部分
1.1 原料與儀器
1.2 PAMAM的合成
1.2.1 0.5G PAMAM的合成
1.2.2 1.0 G PAMAM的合成
1.2.3 產(chǎn)品的純化
1.3 產(chǎn)品的紅外和核磁譜圖分析
1.4 產(chǎn)品對模擬三元復(fù)合驅(qū)體系硅酸鹽垢的阻硅垢性能評價
1.5 硅垢的掃描電子顯微鏡(SEM)和X射線衍射(XRD)分析
2 結(jié)果與討論
2.1 PAMAM的紅外譜圖分析
2.2 PAMAM的核磁譜圖分析
2.3 擬三元復(fù)合驅(qū)體系硅酸鹽垢的阻垢效果
2.4 對硅垢的掃描電子顯微鏡(SEM)分析
2.5 對硅垢的X射線衍射(XRD)分析
3 結(jié) 論
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