針對(duì)硫醚化反應(yīng)過(guò)程使用的Mo-Ni/Al₂O₃催化劑,考察了不同浸漬方法對(duì)其催化性能和表面結(jié)構(gòu)性質(zhì)的影響。結(jié)果表明,通過(guò)同步浸漬和分步浸漬方法制得Mo-Ni/Al₂O₃催化劑的活性順序?yàn)?先浸漬Mo后浸漬Ni的催化劑（SI-mn）≈Ni和Mo共同浸漬的催化劑（MN）>先浸漬Ni后浸漬Mo的催化劑（SI-nm）。對(duì)于SI-mn催化劑,先負(fù)載Mo后減弱了二次浸漬的Ni金屬與載體間的相互作用,有利于負(fù)載金屬的活化,并在二次浸漬后焙燒過(guò)程顯現(xiàn)出顯著的電子效應(yīng),形成新的Mo-Ni前體物種,有利于在預(yù)硫化過(guò)程形成適宜硫醚化和二烯烴選擇性加氫的活性中心相,促進(jìn)硫醚化反應(yīng)和二烯烴選擇性加氫。對(duì)于共同浸漬的MN催化劑也有類(lèi)似的性質(zhì),因而也具有較好的催化性能。 

【文章來(lái)源】：燃料化學(xué)學(xué)報(bào). 2017,45(05)北大核心EICSCD

【文章頁(yè)數(shù)】：8 頁(yè)

【部分圖文】：

不同浸漬順序催化劑的反應(yīng)性能Figure1PerformanceoftheMo-Ni/Al2O3catalystspreparedbydifferentimpregnationsequencesinthioetherification

圖2為不同浸漬順序催化劑的XＲD譜圖。圖2中無(wú)明顯的金屬組分衍射峰，表明采樣不同浸漬順序制得的催化劑表面金屬組分均在載體表面高度分散。圖2不同浸漬順序催化劑(氧化態(tài))XＲD譜圖Figure2XＲDpatternsoftheMo-Ni/Al2O3catalysts(oxidationstate)preparedbydifferentimpregnationsequences圖3為不同浸漬順序催化劑氧化態(tài)的H2-TPＲ譜圖。負(fù)載型Mo-Ni/Al2O3催化劑的H2-TPＲ譜圖只有一個(gè)大的重疊峰，在350－1000℃。其中，在400℃附近出現(xiàn)小還原峰，研究表明［18］，該峰為+6價(jià)的Mo部分還原為+4價(jià)引起(單Mo的CB-2催化劑的550℃附近的還原峰根據(jù)文獻(xiàn)［17］研究規(guī)律為+6價(jià)的Mo部分還原為+4價(jià)引起，而1000℃附近的還原峰為所有Mo物種深度還原峰，當(dāng)引入Ni元素后可降低Mo的還原溫度)。620和820℃附近的兩個(gè)峰為兩個(gè)不同Ni化合物物種在還原過(guò)程形成的重疊峰(820℃附近還原峰還可能存在向低溫遷移后的Mo物種還原峰)，對(duì)于這兩個(gè)還原峰可分別歸屬:620℃附近的還原峰為Ni嵌入Al2O3載體表面八面體空位形成的NiAl2O4尖晶石物種，820℃附近的還原峰為Ni嵌入Al2O3載體表面四面體空位形成的NiAlxOy(x＞2)類(lèi)尖晶石物種［19－21］。這兩類(lèi)Ni物種與載體間的作用都比較強(qiáng)，尤其后者很難被還原或硫化形成催化劑的反應(yīng)活性中心［22，23］。圖3中SI-mn和MN催化劑上負(fù)載金屬的還原峰整體向低溫位偏移，表明這兩個(gè)催化劑負(fù)載的金屬還原性能明顯高于SI-nm、CB-1和CB-2催化劑，說(shuō)明SI-mn和MN催化劑上活性金屬與載體間的作用力較弱。在820℃附近的四面體空位形成的NiAlxOy(x＞2)類(lèi)尖晶石物種也明顯降低，這表明，先浸漬的Mo可阻止Ni進(jìn)入Al2O3表面晶格生產(chǎn)強(qiáng)金?

圖2為不同浸漬順序催化劑的XＲD譜圖。圖2中無(wú)明顯的金屬組分衍射峰，表明采樣不同浸漬順序制得的催化劑表面金屬組分均在載體表面高度分散。圖2不同浸漬順序催化劑(氧化態(tài))XＲD譜圖Figure2XＲDpatternsoftheMo-Ni/Al2O3catalysts(oxidationstate)preparedbydifferentimpregnationsequences圖3為不同浸漬順序催化劑氧化態(tài)的H2-TPＲ譜圖。負(fù)載型Mo-Ni/Al2O3催化劑的H2-TPＲ譜圖只有一個(gè)大的重疊峰，在350－1000℃。其中，在400℃附近出現(xiàn)小還原峰，研究表明［18］，該峰為+6價(jià)的Mo部分還原為+4價(jià)引起(單Mo的CB-2催化劑的550℃附近的還原峰根據(jù)文獻(xiàn)［17］研究規(guī)律為+6價(jià)的Mo部分還原為+4價(jià)引起，而1000℃附近的還原峰為所有Mo物種深度還原峰，當(dāng)引入Ni元素后可降低Mo的還原溫度)。620和820℃附近的兩個(gè)峰為兩個(gè)不同Ni化合物物種在還原過(guò)程形成的重疊峰(820℃附近還原峰還可能存在向低溫遷移后的Mo物種還原峰)，對(duì)于這兩個(gè)還原峰可分別歸屬:620℃附近的還原峰為Ni嵌入Al2O3載體表面八面體空位形成的NiAl2O4尖晶石物種，820℃附近的還原峰為Ni嵌入Al2O3載體表面四面體空位形成的NiAlxOy(x＞2)類(lèi)尖晶石物種［19－21］。這兩類(lèi)Ni物種與載體間的作用都比較強(qiáng)，尤其后者很難被還原或硫化形成催化劑的反應(yīng)活性中心［22，23］。圖3中SI-mn和MN催化劑上負(fù)載金屬的還原峰整體向低溫位偏移，表明這兩個(gè)催化劑負(fù)載的金屬還原性能明顯高于SI-nm、CB-1和CB-2催化劑，說(shuō)明SI-mn和MN催化劑上活性金屬與載體間的作用力較弱。在820℃附近的四面體空位形成的NiAlxOy(x＞2)類(lèi)尖晶石物種也明顯降低，這表明，先浸漬的Mo可阻止Ni進(jìn)入Al2O3表面晶格生產(chǎn)強(qiáng)金?

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
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博士論文
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本文編號(hào)：3429980