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云紋干涉法測定1200℃單晶材料彈性模量及泊松比研究

發(fā)布時間:2018-05-27 06:05

  本文選題:云紋干涉 +  ; 參考:《應(yīng)用激光》2016年04期


【摘要】:通常金屬試件表面零厚度光柵在800~1 000℃下就發(fā)生氧化和低固溶點(diǎn)金屬的溢出,導(dǎo)致試件表面的光柵被完全覆蓋,無法繼續(xù)測量。本文通過特殊的物理方法處理,使試件表面光柵重新顯現(xiàn),從而獲得1 200℃下清晰的干涉條紋,成功測試該溫度下單晶材料的彈性模量和泊松比。
[Abstract]:Generally, the zero thickness grating on the surface of the metal specimen is oxidized at 800 鈩,

本文編號:1940746

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