云紋干涉法測(cè)定1200℃單晶材料彈性模量及泊松比研究
發(fā)布時(shí)間:2018-05-27 06:05
本文選題:云紋干涉 + ℃; 參考:《應(yīng)用激光》2016年04期
【摘要】:通常金屬試件表面零厚度光柵在800~1 000℃下就發(fā)生氧化和低固溶點(diǎn)金屬的溢出,導(dǎo)致試件表面的光柵被完全覆蓋,無法繼續(xù)測(cè)量。本文通過特殊的物理方法處理,使試件表面光柵重新顯現(xiàn),從而獲得1 200℃下清晰的干涉條紋,成功測(cè)試該溫度下單晶材料的彈性模量和泊松比。
[Abstract]:Generally, the zero thickness grating on the surface of the metal specimen is oxidized at 800 鈩,
本文編號(hào):1940746
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