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Flash存儲器總劑量效應(yīng)研究

發(fā)布時間:2017-05-24 18:31

  本文關(guān)鍵詞:Flash存儲器總劑量效應(yīng)研究,由筆耕文化傳播整理發(fā)布。


【摘要】:Flash存儲器具有高速度、大容量、非易失性和高可靠性等特點,近年來已經(jīng)逐步應(yīng)用于航天電子系統(tǒng)中,空間中的各種高能粒子會對包括Flash的各種電子元器件造成嚴(yán)重的影響,引起各種輻射效應(yīng),總劑量效應(yīng)是Flash存儲器在空間應(yīng)用中需要面對的最重要的問題之一,因此對Flash存儲器的總劑量效應(yīng)研究具有十分重要的意義。 本文從總劑量效應(yīng)在MOS器件中的產(chǎn)生機理出發(fā),首先分析了總劑量效應(yīng)對MOS器件電參數(shù)和性能的影響。接著結(jié)合NOR型Flash存儲器的內(nèi)部各模塊的電路結(jié)構(gòu)和浮柵單元的工作原理研究其總劑量敏感單元和敏感參數(shù),分析得出電荷泵和存儲單元是NOR型Flash敏感單元的結(jié)論。在調(diào)研國內(nèi)外輻射試驗標(biāo)準(zhǔn)和相關(guān)文獻(xiàn)的基礎(chǔ)上,制訂總劑量試驗方案,開發(fā)設(shè)計出一套針對AM29LV160D芯片的總劑量效應(yīng)試驗系統(tǒng)。在總劑量試驗中,動態(tài)偏置的芯片最先失效,,芯片的擦除時間在試驗中嚴(yán)重退化且編程功能總是先于擦除功能失效。試驗結(jié)果證明電荷泵是Flash存儲器的總劑量試驗中最敏感的單元,存儲單元中輻射誘發(fā)的兩種陷阱電荷的不同可能是導(dǎo)致芯片編程和擦除功能先后失效的重要原因,開啟電荷泵的動態(tài)偏置是Flash存儲器總劑量試驗的最劣偏置。
【關(guān)鍵詞】:Flash存儲器 總劑量效應(yīng) 敏感性分析 電荷泵 動態(tài)偏置
【學(xué)位授予單位】:西安電子科技大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2014
【分類號】:TP333
【目錄】:
  • 摘要3-4
  • Abstract4-7
  • 第一章 緒論7-15
  • 1.1 研究背景7-10
  • 1.1.1 Flash 存儲器的發(fā)展現(xiàn)狀和應(yīng)用需求7-8
  • 1.1.2 空間輻射環(huán)境中的輻射效應(yīng)8-10
  • 1.2 總劑量效應(yīng)研究現(xiàn)狀10-12
  • 1.3 論文的主要工作及組織結(jié)構(gòu)12-15
  • 第二章 總劑量效應(yīng)分析15-25
  • 2.1 MOS 器件總劑量效應(yīng)產(chǎn)生機理15-17
  • 2.1.1 氧化層陷阱電荷16-17
  • 2.1.2 界面態(tài)陷阱電荷17
  • 2.2 總劑量效應(yīng)對 MOS 器件的影響17-21
  • 2.2.1 閾值電壓漂移18-19
  • 2.2.2 輻射導(dǎo)致的漏電流19-20
  • 2.2.3 跨導(dǎo)退化20-21
  • 2.3 總劑量效應(yīng)影響因素分析21-23
  • 2.4 本章小結(jié)23-25
  • 第三章 Flash 存儲器總劑量敏感性研究25-41
  • 3.1 Flash 存儲器工作原理和組成結(jié)構(gòu)25-29
  • 3.1.1 浮柵單元工作原理和操作25-27
  • 3.1.2 Flash 存儲器的架構(gòu)27-29
  • 3.2 Flash 存儲器內(nèi)部各模塊的總劑量敏感性分析29-38
  • 3.2.1 Flash 存儲器的結(jié)構(gòu)組成29-30
  • 3.2.2 Flash 的存儲陣列及其總劑量敏感性分析30-32
  • 3.2.3 Flash 外圍電路中電荷泵及其總劑量敏感性分析32-36
  • 3.2.4 Flash 外圍電路其他部分的敏感性分析36-38
  • 3.3 AM29LV160D 存儲器的輻射敏感性38-40
  • 3.3.1 AM29LV160D 芯片介紹38-39
  • 3.3.2 AM29LV160D 存儲器的總劑量敏感性分析39-40
  • 3.4 本章小結(jié)40-41
  • 第四章 Flash 存儲器總劑量試驗及結(jié)果分析41-57
  • 4.1 AM29LV160D 器件總劑量效應(yīng)試驗方案41-44
  • 4.1.1 試驗偏置方案41-43
  • 4.1.2 劑量率和退火的選擇43-44
  • 4.2 AM29LV160D 總劑量效應(yīng)試驗系統(tǒng)介紹44-50
  • 4.2.1 測試系統(tǒng)硬件介紹45-47
  • 4.2.2 測試系統(tǒng)軟件介紹47-50
  • 4.3 AM29LV160D 器件總劑量效應(yīng)試驗程序50-51
  • 4.4 AM29LV160D 總劑量效應(yīng)試驗結(jié)果和分析51-55
  • 4.4.1 試驗結(jié)果51-54
  • 4.4.2 結(jié)果討論54-55
  • 4.5 本章小結(jié)55-57
  • 第五章 總結(jié)與展望57-59
  • 致謝59-61
  • 參考文獻(xiàn)61-64

【共引文獻(xiàn)】

中國重要會議論文全文數(shù)據(jù)庫 前9條

1 任迪遠(yuǎn);陸嫵;余學(xué)鋒;郭旗;艾爾肯;;雙極運算放大器在不同劑量率下的輻射損傷效應(yīng)[A];第十一屆全國可靠性物理學(xué)術(shù)討論會論文集[C];2005年

2 陸嫵;任迪遠(yuǎn);郭旗;余學(xué)峰;艾爾肯;;JFET輸入運算放大器不同劑量率的輻照和退火特性[A];第十一屆全國可靠性物理學(xué)術(shù)討論會論文集[C];2005年

3 陸嫵;任迪遠(yuǎn);余學(xué)鋒;郭旗;艾爾肯;;雙極器件不同劑量率的輻射效應(yīng)和退火特性[A];中國科協(xié)2005年學(xué)術(shù)年會論文集——核科技、核應(yīng)用、核經(jīng)濟(jì)論壇[C];2005年

4 高博;余學(xué)峰;任迪遠(yuǎn);吾勤之;劉偉鑫;李豫東;李茂順;崔江維;王義元;;星載DC/DC電源轉(zhuǎn)換器總劑量效應(yīng)研究[A];第十五屆全國核電子學(xué)與核探測技術(shù)學(xué)術(shù)年會論文集[C];2010年

5 陸嫵;任迪遠(yuǎn);郭旗;余學(xué)峰;;不同劑量率下MOSFET的輻照響應(yīng)和退火行為[A];2008第六屆電子產(chǎn)品防護(hù)技術(shù)研討會論文集[C];2008年

6 恩云飛;何玉娟;羅宏偉;;總劑量電離輻照試驗新技術(shù)[A];2010第十五屆可靠性學(xué)術(shù)年會論文集[C];2010年

7 樊磊;王科;張圣君;嚴(yán)珂;姜維春;李鮮;王錚;劉振安;張萬昌;曹學(xué)蕾;;一種抗單粒子翻轉(zhuǎn)的D觸發(fā)器[A];第十六屆全國核電子學(xué)與核探測技術(shù)學(xué)術(shù)年會論文集(上冊)[C];2012年

8 高博;劉剛;王立新;韓鄭生;趙發(fā)展;宋李梅;張彥飛;王春林;;一種抗核加固功率VDMOS器件瞬時電離輻射效應(yīng)研究[A];第十六屆全國核電子學(xué)與核探測技術(shù)學(xué)術(shù)年會論文集(上冊)[C];2012年

9 趙立宏;鄧騫;;基于隱馬爾可夫模型的核設(shè)施故障診斷[A];中國核科學(xué)技術(shù)進(jìn)展報告(第二卷)——中國核學(xué)會2011年學(xué)術(shù)年會論文集第9冊(核醫(yī)學(xué)分卷、核技術(shù)工業(yè)應(yīng)用分卷)[C];2011年

中國博士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫 前10條

1 范雪;一種新型反熔絲存儲器的研制及其抗輻射加固方法研究[D];電子科技大學(xué);2011年

2 肖志強;SOI器件電離總劑量輻射特性研究[D];電子科技大學(xué);2011年

3 鐘志親;6H-SiC的輻照效應(yīng)研究[D];四川大學(xué);2007年

4 譚開洲;部分絕緣鍵合SOI新結(jié)構(gòu)及應(yīng)用基礎(chǔ)研究[D];電子科技大學(xué);2008年

5 龔銳;多核微處理器容軟錯誤設(shè)計關(guān)鍵技術(shù)研究[D];國防科學(xué)技術(shù)大學(xué);2008年

6 胡建民;GaAs太陽電池空間粒子輻照效應(yīng)及在軌性能退化預(yù)測方法[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2009年

7 張林;4H-SiC SBD與MESFET高能粒子輻照效應(yīng)研究[D];西安電子科技大學(xué);2009年

8 王文華;大視場遙感相機成像均勻性研究[D];中國科學(xué)院研究生院(長春光學(xué)精密機械與物理研究所);2010年

9 李應(yīng)輝;晶體管輸出型光電耦合器輻照及其噪聲研究[D];電子科技大學(xué);2010年

10 李密;衛(wèi)星光通信中空間輻射環(huán)境對摻鉺光纖放大器影響研究[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2010年

中國碩士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫 前10條

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2 趙瑛;基于噪聲的pn結(jié)材料輻射損傷評價方法研究[D];西安電子科技大學(xué);2011年

3 李佳;存儲器輻照總劑量試驗方法研究[D];西安電子科技大學(xué);2011年

4 程和遠(yuǎn);超高速二分頻器電路的設(shè)計及其γ輻射研究[D];西安電子科技大學(xué);2011年

5 陳春林;關(guān)于PMOS輻照傳感器的模擬研究[D];江南大學(xué);2011年

6 王志達(dá);X射線總劑量輻射對晶閘管導(dǎo)通特性的影響研究[D];華南理工大學(xué);2011年

7 趙志明;NPN型晶體管輻射損傷及退火效應(yīng)研究[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2010年

8 劉凡宇;90納米CMOS工藝下單粒子效應(yīng)引起的電荷共享研究[D];國防科學(xué)技術(shù)大學(xué);2010年

9 宋超;邏輯電路軟錯誤率評估模型設(shè)計與實現(xiàn)[D];國防科學(xué)技術(shù)大學(xué);2010年

10 金作霖;柵氧退化效應(yīng)下SRAM軟錯誤分析與加固技術(shù)研究[D];國防科學(xué)技術(shù)大學(xué);2011年


  本文關(guān)鍵詞:Flash存儲器總劑量效應(yīng)研究,由筆耕文化傳播整理發(fā)布。



本文編號:391651

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