采用磁控濺射方法在玻璃基片上制備了以Ru,Cu,Pt和Ta為底層的Co Fe B/Pt多層膜樣品,研究了各底層對Co Fe B/Pt多層膜的反�；魻栃�(yīng)的影響。發(fā)現(xiàn)Ru和Cu作為Co Fe B/Pt多層膜的底層在保持樣品的垂直磁各向異性方面的作用遠(yuǎn)不如Pt和Ta底層,而且樣品的霍爾電阻比Pt和Ta做底層要小。Ta作為Co Fe B/Pt多層膜的底層與Pt作為底層相比能夠更好地和多層膜晶格匹配,并且在400℃退火后反常霍爾效應(yīng)得到增強(qiáng)。霍爾電阻提高近80%,矯頑力達(dá)到了5.7×10³ A·m^–1,有望作為垂直自由層應(yīng)用到磁隧道結(jié)構(gòu)中。

【文章頁數(shù)】：4 頁


本文編號：3759571