采用磁控濺射方法在玻璃基片上制備了以Ru,Cu,Pt和Ta為底層的Co Fe B/Pt多層膜樣品,研究了各底層對Co Fe B/Pt多層膜的反常霍爾效應(yīng)的影響。發(fā)現(xiàn)Ru和Cu作為Co Fe B/Pt多層膜的底層在保持樣品的垂直磁各向異性方面的作用遠不如Pt和Ta底層,而且樣品的霍爾電阻比Pt和Ta做底層要小。Ta作為Co Fe B/Pt多層膜的底層與Pt作為底層相比能夠更好地和多層膜晶格匹配,并且在400℃退火后反�；魻栃�(yīng)得到增強�；魻栯娮杼岣呓�80%,矯頑力達到了5.7×10³ A·m^–1,有望作為垂直自由層應(yīng)用到磁隧道結(jié)構(gòu)中。

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