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基于65nm體硅CMOS工藝下抗輻射SRAM單元設(shè)計加固方法的研究

發(fā)布時間:2021-08-11 03:57
  近年來,半導(dǎo)體技術(shù)得到了快速地發(fā)展,CMOS工藝尺寸不斷縮減,使得受輻射影響的集成電路設(shè)備的可靠性面臨更加嚴(yán)峻地挑戰(zhàn)。此外,隨著電路供電電壓以及節(jié)點電容的降低,作為集成電路的一重要組成部分,存儲器對單粒子效應(yīng)(Single Event Effects,SEE)的敏感性越來越高。因此,對于存儲器的抗輻射研究變得尤為重要。本文通過對現(xiàn)有靜態(tài)隨機存儲器(Static Random Access Memory,SRAM)設(shè)計加固單元的分析,基于傳統(tǒng)的DICE(the dual interlocked storage cell)結(jié)構(gòu)進行改進,提出了一種抗輻射增強型的DICE(Radiation Hardened Enhanced DICE,RHED)SRAM單元結(jié)構(gòu)。與DICE單元相比,RHED單元不僅提高了電路對單粒子事件多節(jié)點翻轉(zhuǎn)(Single-Event Multiple-Node Upsets,SEMNUs)的免疫能力,還極大地提高了電路的保持靜態(tài)噪聲容限(Hold Static Noise Margin,HSNM)。除此之外,RHED單元的寫裕度(Write Margin,WM)和功耗... 

【文章來源】:安徽大學(xué)安徽省 211工程院校

【文章頁數(shù)】:60 頁

【學(xué)位級別】:碩士

【部分圖文】:

基于65nm體硅CMOS工藝下抗輻射SRAM單元設(shè)計加固方法的研究


圖1-2空間中各種輻射源??Fig.?1-2?Various?sources?of?radiation?in?space??

示意圖,總劑量效應(yīng),增強型,示意圖


介紹:??(1)空間輻射環(huán)境??復(fù)雜的空間輻射環(huán)境中包含著各種高能粒子和高能射線,如圖1-2所示[2],??根據(jù)其來源可以分為銀河宇宙射線、太陽輻射線、地球輻射帶三大類。??銀河宇宙射^???Z?,射‘??銀河宇宙射線^^????圖1-2空間中各種輻射源??Fig.?1-2?Various?sources?of?radiation?in?space???銀河宇宙射線??銀河宇宙射線(Galactic?Cosmic?Rays,?GCR)是指來自于太陽系外的銀河系??的高能粒子,其大部分是單純的質(zhì)子(約占84.3%)和氦原子核(約占]2°/。),??能量約在lOOMeV到]05MeV之間。銀河宇宙射線含有的能量很高,大氣層可??以攔截住絕大部分的射線,從而避免地球上的集成電路設(shè)備受其影響,但太空中??的集成電路設(shè)備卻無法避免。???太陽輻射線??2??

存儲器,芯片,比重,集成電路


在芯片中的作用是數(shù)據(jù)的存取,是集成電路的核心部分之一。的飛速發(fā)展,存儲器在芯片中所占的面積越來越大,如圖】-4儲器占據(jù)了整個芯片面積的90%以上,成為芯片中最大的模器也是芯片中受輻射影響最大的電路模塊。SRAM是眾多存儲持狀態(tài)下對輻射效應(yīng)最為敏感。當(dāng)SRAM電路在輻射環(huán)境中受時,粒子會在轟擊路徑上電離產(chǎn)生大量的多余電荷,當(dāng)部分多敏感節(jié)點收集后,節(jié)點處的電壓會出現(xiàn)向上或向下跳變,即電M單元來說,當(dāng)電壓擾動的強度足夠大以至于超過反相器的邏存儲的數(shù)據(jù)會發(fā)生改變,這就是SRAM單元中的SEUI9],整個錯誤的數(shù)據(jù)發(fā)生工作故障。在集成電路中SRAM單元扮演著數(shù)整個集成電路的運行離不開SRAM單元的正常工作。因此,對輻射效應(yīng)的影響,為航空航天領(lǐng)域提供更為可靠的集成電路元的抗輻射加固很是關(guān)鍵。??100%1???

【參考文獻】:
期刊論文
[1]半導(dǎo)體器件輻射效應(yīng)研究[J]. 劉忠立.  信息與電子工程. 2012(06)
[2]模擬電路的單粒子瞬時效應(yīng)[J]. 陳盤訓(xùn),周開明.  核技術(shù). 2006(03)
[3]單粒子效應(yīng)對衛(wèi)星空間運行可靠性影響[J]. 王長河.  半導(dǎo)體情報. 1998(01)

博士論文
[1]納米CMOS集成電路單粒子誘導(dǎo)的脈沖窄化及電荷共享效應(yīng)研究[D]. 秦軍瑞.國防科學(xué)技術(shù)大學(xué) 2013
[2]集成電路單粒子效應(yīng)建模與加固方法研究[D]. 劉必慰.國防科學(xué)技術(shù)大學(xué) 2009

碩士論文
[1]65nm體硅CMOS工藝下單粒子瞬態(tài)效應(yīng)加固方法的研究[D]. 武賽.安徽大學(xué) 2017
[2]場效應(yīng)晶體管的單粒子瞬態(tài)效應(yīng)及加固方法研究[D]. 徐新宇.湘潭大學(xué) 2015
[3]65nm工藝高性能SRAM的研究與實現(xiàn)[D]. 溫亮.國防科學(xué)技術(shù)大學(xué) 2011



本文編號:3335400

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