超高密度近場(chǎng)光存儲(chǔ)中對(duì)膜寫(xiě)入的分析與實(shí)驗(yàn)
【學(xué)位單位】:大連理工大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位年份】:2007
【中圖分類】:TP333.4
【部分圖文】:
實(shí)現(xiàn)高密度存儲(chǔ)。超高密度存儲(chǔ)方法相比,近場(chǎng)光學(xué)存儲(chǔ)主要有以下優(yōu)點(diǎn):密度、大容量:讀寫(xiě)光斑小,大大提高了存儲(chǔ)的密度,使得存儲(chǔ)容量著近場(chǎng)光存儲(chǔ)技術(shù)的進(jìn)一步完善,還可以獲得比較高的數(shù)據(jù)傳輸速率充分利用已有存儲(chǔ)技術(shù):如硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器中的空氣懸浮磁頭技術(shù)和光盤(pán)技術(shù),而不必另外再去進(jìn)行新的系統(tǒng)設(shè)計(jì)與開(kāi)發(fā),因而有助于減低產(chǎn)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)。立的己能夠進(jìn)行存取數(shù)據(jù)操作的實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)可分為3種:(l)固體浸沒(méi)透(2)超分辨率近場(chǎng)結(jié)構(gòu)(SuPer--RENS)存儲(chǔ);(3)探針掃描顯微術(shù)(PSM方法都是通過(guò)不同方法縮小記錄光斑來(lái)提高存儲(chǔ)密度。體浸沒(méi)透鏡近場(chǎng)存儲(chǔ)儲(chǔ)方案是通過(guò)使用高數(shù)值孔徑的固體浸沒(méi)透鏡(SIL)來(lái)減小讀寫(xiě)光斑結(jié)構(gòu)如圖1.2所示。
三是SIL的光學(xué)鏡頭與記錄盤(pán)片之間的間距要始終保持在近場(chǎng)范圍內(nèi),利用近場(chǎng)藕合來(lái)對(duì)盤(pán)片進(jìn)行讀寫(xiě)。對(duì)此不少人提出了改進(jìn)的方法,Hirota等人提出了利用尖銳的圓錐尖形狀來(lái)保持固體浸沒(méi)透鏡底部與記錄介質(zhì)的間距【‘61,如圖1.4的設(shè)計(jì)對(duì)于保持半球物鏡與記錄介質(zhì)的近場(chǎng)距離很有幫助。另外,微弱的近場(chǎng)光信號(hào)的探測(cè)需要很高靈敏度的探測(cè)器,同時(shí)要去除背景噪聲的影響。b侖Om已郎l寧愉ro比勇均e朽,e陌舫 /////...尸喂 喂 ttt/////l111{{{乙 乙萬(wàn) {{{l///[[[}}}l」 」 22222廠 ---r-...({{{ }}}}}{{{‘‘’’功日日 圖 1.4改進(jìn)的利用固浸物鏡實(shí)現(xiàn)近場(chǎng)光存儲(chǔ)的原理圖 Fig.1.4SILandProbecombinationinsertedbetweenafoeusingobjectiveandtherecording一layer 1.3.2超分辨率近場(chǎng)結(jié)構(gòu) (SuPeoRENS)存儲(chǔ)Supe二RENS具有多層膜系,它是利用孔徑層介質(zhì)在強(qiáng)光作用下的非線性效應(yīng)和表面等離子激元場(chǎng)增強(qiáng)效應(yīng)來(lái)實(shí)現(xiàn)亞波長(zhǎng)尺寸光學(xué)存儲(chǔ)的,原理如圖1.5所示。它在盤(pán)片中距記錄層加Iun處加掩膜層,其中核心的sb或Agox稱為孔徑開(kāi)關(guān)層,作用與納米孔徑相同。當(dāng)一定功率的激光束作用到孔徑開(kāi)關(guān)層上時(shí),在孔徑開(kāi)關(guān)層與保護(hù)層之間形成表面等離子體
超高密度近場(chǎng)光存儲(chǔ)中對(duì)膜寫(xiě)入的分析與實(shí)驗(yàn)內(nèi)所產(chǎn)生的光斑直徑要小于衍射極限分辨尺寸,r一RENs技術(shù)最早由日本JunjiTominaga博士等ox作為掩膜層材料,并以此將SuPer一RENS分為
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