【摘要】： 光磁混合存儲(chǔ)技術(shù)可以突破鐵磁材料超順磁極限的限制，極大地提高硬盤記錄密度。它利用鐵磁材料矯頑力的溫度特性，采用激光輔助熱磁寫入，信號讀出則采用高靈敏度的巨磁阻磁頭檢測磁通方式來進(jìn)行。實(shí)現(xiàn)光磁混合存儲(chǔ)的關(guān)鍵之一是光磁混合記錄介質(zhì)的研究和開發(fā)，本文圍繞FePt基光磁混合記錄介質(zhì)的研究和制備，完成的主要研究工作包括： 針對光磁混合記錄的特點(diǎn)和要求，采用射頻磁控濺射方法制備出了不同系列的FePt薄膜，制備的薄膜通過真空退火熱處理后形成了L1_0有序結(jié)構(gòu)，測量并分析了濺射態(tài)和經(jīng)不同條件退火處理后薄膜的物性及微觀結(jié)構(gòu)特性，主要包括：不同膜層厚度以及Ag底層對FePt單層薄膜垂直取向的影響；不同退火冷卻速率和不同退火時(shí)間對FePt薄膜磁性能的影響；不同膜層結(jié)構(gòu)的[Fe/Pt]_n和[FePt/Ag]_(10)多層膜磁性能研究；Ni摻雜對FePt磁性能和居里溫度的影響。測試結(jié)果表明：制備的FePt單層和Ag/FePt雙層薄膜具有良好的垂直取向；退火過程中的冷卻速度能夠顯著影響剩磁矩形比；Fe/Pt多層膜能有效降低FePt薄膜的有序化溫度；采用Ni摻雜的方法能有效降低FePt薄膜的居里溫度。 采用微磁學(xué)方法，模擬了FePt薄膜的磁化翻轉(zhuǎn)過程，描述了磁化翻轉(zhuǎn)過程中不同時(shí)刻的磁矩分布情況，研究了薄膜垂直矯頑力隨角度θ的變化關(guān)系(θ為易磁化軸和外場之間的夾角)，以及矯頑力隨粒徑變化關(guān)系；模擬了[FePt/X]_(10)(其中X為非磁性材料)多層膜中X層厚度的變化對多層膜矯頑力的影響；在此基礎(chǔ)上，研究了粒徑對過渡區(qū)噪聲參數(shù)的影響，所研究的過渡區(qū)噪聲參數(shù)包括過渡區(qū)寬度、垂直于記錄軌道方向關(guān)聯(lián)長度和位置偏移參數(shù)。模擬結(jié)果表明：FePt單層薄膜的磁化翻轉(zhuǎn)符合SW模型；隨著晶粒尺寸的增大，薄膜矯頑力逐漸降低，過渡區(qū)噪聲逐漸增大。
【學(xué)位授予單位】：華中科技大學(xué)
【學(xué)位級別】：博士
【學(xué)位授予年份】：2009
【分類號】：TQ594
【圖文】：

華中科技大學(xué)博士學(xué)位論文也就是通過磁頭檢測漏磁場來讀取信號。光磁混合存儲(chǔ)技術(shù)兼顧了光存儲(chǔ)和磁存儲(chǔ)技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)，相比傳統(tǒng)的磁存儲(chǔ)技術(shù)，它具有更好的穩(wěn)定性，同時(shí)可以依靠光存儲(chǔ)技術(shù)的優(yōu)勢提高記錄密度。此外，還有一些技術(shù)也被廣泛關(guān)注，如兒yoshi、么mak~等人開發(fā)了一種可以增強(qiáng)寫磁場的單極型磁頭[3l;王建平等正在研究的傾斜垂直記錄(tiltedperpendicularreeoraing)技術(shù)[4]。希捷公司正在發(fā)展的soMA(selr-orderedM銘neti。Arrays，自排列磁體陣列)技術(shù)[5l。磁頭、撇傳感券

Stoner-Wohifanh(Sw)旋轉(zhuǎn)模型。一般情況下，對于疇壁移動(dòng)模成正比，而Stoner-Wohifa哎h(S助旋轉(zhuǎn)模型所對應(yīng)+(sine)，‘，)，‘，要的方面。成正比193〕。對于高密度磁記錄來說，磁介質(zhì)的磁由疇壁運(yùn)動(dòng)機(jī)制產(chǎn)生的磁疇翻轉(zhuǎn)存在較大的過渡區(qū)的提高。另一方面從降低介質(zhì)的噪聲的角度來看，反磁化過程。從圖2.4中可知，濺射在玻璃基片上采用自然退火方式的Fe轉(zhuǎn)與疇壁移動(dòng)行為類似，也就是說此時(shí)薄膜內(nèi)顆粒之間有非常合作用會(huì)增加介質(zhì)噪聲，不利于信號的讀出。然而由模擬的結(jié)的增大矯頑力逐漸減小，這一結(jié)果與Stoner-Wohifarth(sw)模型處于非常理想的狀態(tài)下，顆粒之間沒有禍合作用。降低顆粒間研究的內(nèi)容之一。

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1 陳璐;徐文東;朱青;;光磁混合存儲(chǔ)動(dòng)態(tài)測試系統(tǒng)中的聚焦伺服模塊研究[J];光學(xué)學(xué)報(bào);2009年05期

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本文編號：2734396