基于第一性原理的HfOx憶阻器電輸運(yùn)機(jī)制研究
【圖文】:
日新月異的時(shí)代,而驅(qū)動(dòng)這個(gè)時(shí)代發(fā)展的息化社會(huì)的基石,,存儲(chǔ)器的發(fā)展影響著人隨著半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展,半導(dǎo)體器件逐漸目前計(jì)算機(jī)采用的“馮·諾依曼體系結(jié)構(gòu)墻”問題制約了信息處理的速度,發(fā)展存點(diǎn)。流產(chǎn)品是閃存(Flash),它不僅功耗小、隨著移動(dòng)電子設(shè)備和 SSD(Solid State Dis他的存儲(chǔ)器牢牢占據(jù)著榜首,2015 年占據(jù)也漸漸滿足不了人們嚴(yán)苛的需求,于是業(yè)半導(dǎo)體各大巨頭三星、英特爾等都推出了主研發(fā) 32 層 3D NAND 閃存芯片也開始投擦寫電壓較高,導(dǎo)致其可提升的空間不大
薛堪豪[27]等在討論 HfOx 憶阻器導(dǎo)電細(xì)絲尺寸方面做出了大量的工作。他們立了橫向直徑不同的導(dǎo)電細(xì)絲,如 1-2 右圖所示。在相同的單斜 HfO2超胞中,沿軸缺少氧原子的路徑作為導(dǎo)電細(xì)絲,如圖中綠色的部分。所建模型中每根導(dǎo)電細(xì)絲間的影響可以忽略不計(jì)。1-2 左圖給出了不同橫向尺寸的導(dǎo)電細(xì)絲的電子態(tài)密度。以看出在導(dǎo)電細(xì)絲橫向尺寸很小的情況下導(dǎo)電細(xì)絲為非導(dǎo)電態(tài),只有當(dāng)橫向面積于 0.4nm2時(shí)導(dǎo)電細(xì)絲才起到導(dǎo)電作用。Celano[28]等利用導(dǎo)電原子力顯微鏡 AFM(conductive atomic force microscopy)研究雙極性 Hf/HfO2/TiN 阻變存儲(chǔ)器導(dǎo)電絲的性質(zhì),直接觀察到錐形導(dǎo)電細(xì)絲,在活性電極的一端導(dǎo)電細(xì)絲的橫截面積38.9nm2,在惰性電極的一端只有 7.8nm2,說明計(jì)算結(jié)果與實(shí)際觀測(cè)到的導(dǎo)電細(xì)絲尺寸有一定的差異。這可以解釋為,在實(shí)際情況中 Hf 金屬容易聚集在一塊,橫向寸大的金屬細(xì)絲的能量更低,更加穩(wěn)定。而計(jì)算得到的結(jié)果只是導(dǎo)電細(xì)絲可以將功層轉(zhuǎn)換為金屬態(tài)的最小橫向面積。
【學(xué)位授予單位】:華中科技大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2019
【分類號(hào)】:TP333
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本文編號(hào):2667793
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