MTM型反熔絲PROM讀出系統(tǒng)的設(shè)計與實現(xiàn)
【圖文】:
MTM 型反熔絲編程前后變化主要由于通過在反熔絲上壓,使得絕緣介質(zhì)層本征擊穿,在上下導(dǎo)電電極間形成導(dǎo)如圖 2-4 示意。BlockMetal1AF襯底B l o c kAF襯底ViaMetal2(a) (b)圖 2-4 反熔絲編程前后變化示意圖。(a)編程前;(b)編程后TM 型反熔絲導(dǎo)電通孔的形成,目前較為流行的一種熱化學(xué)模型分析了 MTM 型反熔絲的絕緣介質(zhì)層在擊穿過程中大小,且說明了編程中的編程電阻和編程后的導(dǎo)通電阻 R如圖 2-5 所示為 MTM 型反熔絲編程時的電流和溫度示意
對稱性,對圖 2-5 所描述的三維也得以簡化。由于魏德曼和弗蘭度成正比,其比例常數(shù)為一與 ( ) ( ) = ,取值為 2.45*10-8W*Ω/K2。據(jù) = , 4 ,Vf,p為編程電壓,κeff為介質(zhì)的值?梢,導(dǎo)電通道半徑與編大,,比例常數(shù)由反熔絲上下導(dǎo)
【學(xué)位授予單位】:電子科技大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2017
【分類號】:TP333
【參考文獻】
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本文編號:2547987
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