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40nm工藝多端口寄存器文件的全定制設(shè)計與實現(xiàn)

發(fā)布時間:2019-07-19 19:52
【摘要】:新型微處理器中寄存器文件的數(shù)量越來越多,寄存器文件延時、面積和功耗占芯片各項指標的比重日益顯著。高性能處理器中寄存器文件性能成為影響其性能的重要因素,如何更好提升寄存器文件的性能成為現(xiàn)階段研究的重點。 本課題對寄存器文件相關(guān)的設(shè)計理論和實現(xiàn)技術(shù)進行深入研究,,以實現(xiàn)高性能為主要目標對寄存器文件進行設(shè)計與優(yōu)化,并在40nm CMOS1P9M工藝下,采用全定制方法設(shè)計實現(xiàn)一款6R5W、32×78位的寄存器文件。模擬結(jié)果表明整個寄存器文件版圖的讀“1”延時為367ps,與半定制方法相比,時鐘頻率提升52.3%,滿足2GHz的設(shè)計要求。本文主要工作及貢獻有以下幾個方面: 1.設(shè)計了一種新的兩級奇偶動態(tài)譯碼結(jié)構(gòu),通過控制地址最低位使得一個譯碼器可以產(chǎn)生奇偶兩個字線信號。這種設(shè)計結(jié)構(gòu)使譯碼器數(shù)目減少50%,相對靜態(tài)譯碼,性能提升25%。 2.在寄存器文件中采用一種新的存儲結(jié)構(gòu),該結(jié)構(gòu)與控制信號協(xié)調(diào)使用可以實現(xiàn)寫后讀操作。采用這種結(jié)構(gòu)的寄存器文件不僅能夠很好的滿足設(shè)計要求,而且可以簡化讀操作電路結(jié)構(gòu)。 3.采用預(yù)估負載的方法選擇合適的驅(qū)動單元,改善版圖設(shè)計中信號驅(qū)動過大或過小的問題,并解決因此產(chǎn)生的延時較大問題。 4.對寄存器文件功能模型、LEF物理視圖和LIB時序模型進行提取,提高寄存器文件的可重用性。此外,還對寄存器文件的可擴展性進行研究,提出一種可以靈活增加字線和位線數(shù)目的方法,并通過實驗分析該方法對延時的影響程度。 上述研究成果顯著降低了寄存器文件延時并將應(yīng)用于工程項目中,該研究成果為40nm以下工藝寄存器文件的研究積累了豐富經(jīng)驗。
【圖文】:
寄存器文拌位置
“簡單”又復(fù)雜。整體結(jié)構(gòu)由譯碼器、單元組成。雖然這些電路單元的邏輯很大,從而形成比較復(fù)雜的電路設(shè)計問題究意義器的性能已經(jīng)和微處理器不相匹配,而為處理器和存儲器的延時對數(shù)的差距圖[理器延時在 1980 年到 1986 年每年提高約%,2004 年到 2010 年每年提高約 20%。次,訪問延時每年只有約 7%的性能增長速度與處理器運行速度的不匹配,即“儲器層次結(jié)構(gòu),如圖 1.1所示。在馮諾依和數(shù)據(jù)是相對簇聚的。這一特征使得CP容量小而且速度快的存儲器中來滿足性
CPU與存儲器性能增長對比
時間1980 1985 1990 1995 2000 2005 2010圖 1.2 CPU 與存儲器性能增長對比提高整個 CPU 的性能,就必須提高 CPU 內(nèi)寄存器文件的性能。寄存器文件提高可以從以下兩個方面著手: 采用先進的制造工藝。制造工藝的發(fā)展趨勢是向著高密度、高集成化的方向發(fā)展。密度越高的 IC 電路設(shè)計,意味著在同樣大小面積的芯片上,可以擁有密度更高、尺寸更小、性能更高、功能更復(fù)雜的電路。 電路設(shè)計技術(shù)的優(yōu)化。主要針對電路結(jié)構(gòu)的優(yōu)化和晶體管尺寸的優(yōu)化。比如分級的字線和位線產(chǎn)生電路,動態(tài)電路設(shè)計中為了更好的控制電路及其信號脈沖寬度,采用一種自復(fù)位CMOS電路[4]產(chǎn)生等。此外,為了增加電路驅(qū)動能力可以進行電路尺寸的調(diào)整等。1.2 國內(nèi)外研究現(xiàn)狀存器文件的性能、面積和功耗是評價寄存器文件的重要指標。不同要求的對這些指標的側(cè)重點不同,比如:一款以低功耗為主的處理器,在寄存器
【學(xué)位授予單位】:國防科學(xué)技術(shù)大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2013
【分類號】:TP332.11

【參考文獻】

相關(guān)博士學(xué)位論文 前1條

1 李振濤;高性能DSP關(guān)鍵電路及EDA技術(shù)研究[D];國防科學(xué)技術(shù)大學(xué);2007年



本文編號:2516456

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