重離子產(chǎn)生δ電子對SRAM單粒子翻轉(zhuǎn)的影響
[Abstract]:With the increase of the integration of microelectronic devices, the 未 electron distribution caused by incident ions in the sensitive region of the devices has more and more significant effect on the single particle effect of the devices, especially it is easy to trigger multi-site inversion, which seriously affects the effectiveness of design reinforcement. Firstly, the 未 electron distribution produced by heavy ions in the sensitive region of the device is simulated by Monte Carlo software package Geant4. The following laws are obtained: the higher the single nuclear energy of incident ion, the larger the radial range of 未 electron distribution; The larger the atomic number, the greater the 未 electron density of different ions with the same mononuclear energy. Secondly, by simulating the single particle flip effect of a 45nm static random access memory, it is shown that both 未 electrons and sensitive region distribution affect the multibit flip of the device. When the sensitive region spacing of the device is constant, the multiposition turnover rate increases first and then decreases with the increase of the incident ion energy, and decreases with the increase of the (LET) value of the incident ion linear energy transfer between the multisite turnover rate peak and the Bragg peak. The multisite turnover rate increases with the increase of ion LET value in both sides of the region.
【作者單位】: 中國科學(xué)院近代物理研究所;中國科學(xué)院大學(xué);
【基金】:國家自然科學(xué)基金資助項目(11179003,10975164,10805062,11005134)~~
【分類號】:TP333
【參考文獻】
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【共引文獻】
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,本文編號:2176708
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