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重離子產(chǎn)生δ電子對SRAM單粒子翻轉(zhuǎn)的影響

發(fā)布時間:2018-08-11 10:17
【摘要】:隨著微電子器件集成度增加,由入射離子在器件靈敏區(qū)內(nèi)引起的δ電子分布對器件單粒子效應(yīng)的影響越來越顯著;尤其是它極易引發(fā)多位翻轉(zhuǎn),嚴重影響設(shè)計加固的有效性。首先利用蒙特卡羅軟件包Geant4模擬得到重離子在器件靈敏區(qū)內(nèi)產(chǎn)生的δ電子分布,分析得出以下規(guī)律:入射離子單核能越高,其產(chǎn)生δ電子分布的徑向范圍越大;單核能相同的不同種離子,原子序數(shù)越大其產(chǎn)生的δ電子密度越大。其次,通過模擬一款45 nm靜態(tài)隨機存儲器的單粒子翻轉(zhuǎn)效應(yīng),說明δ電子和靈敏區(qū)分布共同影響器件的多位翻轉(zhuǎn)。當器件靈敏區(qū)間距一定時,多位翻轉(zhuǎn)率隨入射離子能量的升高先上升后下降;在多位翻轉(zhuǎn)率峰值和布喇格峰之間,多位翻轉(zhuǎn)率隨入射離子線性能量傳輸(LET)值的升高而降低,在該區(qū)域兩側(cè)多位翻轉(zhuǎn)率隨離子LET值的升高而升高。
[Abstract]:With the increase of the integration of microelectronic devices, the 未 electron distribution caused by incident ions in the sensitive region of the devices has more and more significant effect on the single particle effect of the devices, especially it is easy to trigger multi-site inversion, which seriously affects the effectiveness of design reinforcement. Firstly, the 未 electron distribution produced by heavy ions in the sensitive region of the device is simulated by Monte Carlo software package Geant4. The following laws are obtained: the higher the single nuclear energy of incident ion, the larger the radial range of 未 electron distribution; The larger the atomic number, the greater the 未 electron density of different ions with the same mononuclear energy. Secondly, by simulating the single particle flip effect of a 45nm static random access memory, it is shown that both 未 electrons and sensitive region distribution affect the multibit flip of the device. When the sensitive region spacing of the device is constant, the multiposition turnover rate increases first and then decreases with the increase of the incident ion energy, and decreases with the increase of the (LET) value of the incident ion linear energy transfer between the multisite turnover rate peak and the Bragg peak. The multisite turnover rate increases with the increase of ion LET value in both sides of the region.
【作者單位】: 中國科學(xué)院近代物理研究所;中國科學(xué)院大學(xué);
【基金】:國家自然科學(xué)基金資助項目(11179003,10975164,10805062,11005134)~~
【分類號】:TP333

【參考文獻】

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【共引文獻】

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本文編號:2176708

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