本文關(guān)鍵詞：單晶碳化硅和藍寶石基片化學(xué)機械拋光的表面反應(yīng)層形成機制的研究進展

  更多相關(guān)文章： 碳化硅 藍寶石 化學(xué)機械拋光 表面反應(yīng)層 表面表征

【摘要】：碳化硅和藍寶石單晶是重要的空間光學(xué)材料,也是高亮度發(fā)光二極管用的主要襯底材料,實現(xiàn)它們的高質(zhì)量化學(xué)機械拋光(CMP)加工,需要深入理解高化學(xué)穩(wěn)定性襯底材料的超光滑加工過程的材料去除機制,其中一個具有挑戰(zhàn)性的問題是力學(xué)-化學(xué)耦合作用下表面反應(yīng)層的形成機制.本文評述了反應(yīng)層形成機理的研究進展和存在的若干問題,包括表面反應(yīng)層形成的熱力學(xué)機理和動力學(xué)行為、CMP加工模型晶片體系的建立、表面反應(yīng)層的結(jié)構(gòu)和組成表征、研究結(jié)果可比性等,并提出了若干后續(xù)研究的突破點,如設(shè)計和建立表面結(jié)構(gòu)可控的CMP加工模型晶片體系,并確定表面層形成的化學(xué)反應(yīng)速率來解耦合化學(xué)反應(yīng)過程和擴散過程.本文特別強調(diào)了多學(xué)科交叉研究方法的重要性,建議密切結(jié)合材料的表面結(jié)構(gòu)及缺陷的控制和表征、表界面結(jié)構(gòu)和組成分析、化學(xué)反應(yīng)機理研究以及表面和膠體化學(xué)的表界面作用力測量研究.
【作者單位】： 哈爾濱工業(yè)大學(xué)化工與化學(xué)學(xué)院;哈爾濱工業(yè)大學(xué)機電學(xué)院航空宇航制造工程系;
【關(guān)鍵詞】： 碳化硅 藍寶石 化學(xué)機械拋光 表面反應(yīng)層 表面表征
【基金】：國家重點基礎(chǔ)研究發(fā)展計劃(2011CB013200) 國家自然科學(xué)基金重點項目(51535003)資助
【分類號】：TQ164;TN304.24
【正文快照】： 碳化硅(Si C)單晶和藍寶石(Sapphire,單晶?-Al2O3)是制作高亮度發(fā)光二極管(LED)發(fā)光芯片的主流量產(chǎn)襯底材料.作為典型的高化學(xué)穩(wěn)定性的硬脆材料,實現(xiàn)其高質(zhì)量超光滑化學(xué)機械拋光(chemical mechanical polishing,CMP)加工,需要深入理解力學(xué)-化學(xué)耦合作用下CMP加工過程的材料去

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本文編號：633060