本文關(guān)鍵詞：MPCVD制備金剛石膜的形核與生長(zhǎng)過程

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【摘要】：簡(jiǎn)要介紹了金剛石膜的物理化學(xué)特性及應(yīng)用領(lǐng)域。對(duì)比分析了主要化學(xué)氣相沉積方法的優(yōu)缺點(diǎn),并指出MPCVD所面臨的技術(shù)瓶頸�？偨Y(jié)了反應(yīng)腔體內(nèi)壓強(qiáng)、基片溫度、基體材料及增強(qiáng)形核技術(shù)對(duì)金剛石膜形核過程的影響。較低腔體內(nèi)壓力、基片溫度,高碳源濃度及等離子體預(yù)處理能有效提高形核密度。闡述了各過程參數(shù)對(duì)金剛石膜生長(zhǎng)的影響和微米、納米、超納米金剛石膜的技術(shù)特點(diǎn)及應(yīng)用。指出各類金剛石膜制備所面臨的技術(shù)難題,并綜述了解決該技術(shù)瓶頸的最新研究工作。
【作者單位】： 昆明理工大學(xué)超硬材料先進(jìn)制備技術(shù)國(guó)際聯(lián)合研究中心;昆明理工大學(xué)非常規(guī)冶金教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;云南民族大學(xué)民族地區(qū)礦產(chǎn)資源綜合利用重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;昆明理工大學(xué)微波能工程應(yīng)用與裝備技術(shù)國(guó)家地方聯(lián)合工程實(shí)驗(yàn)室;昆明理工大學(xué)冶金與能源工程學(xué)院;
【關(guān)鍵詞】： 金剛石膜 微波等離子體 化學(xué)氣相沉積 形核 生長(zhǎng)
【基金】：國(guó)家國(guó)際科技合作專項(xiàng)項(xiàng)目(L2015RR0101) 昆明市科技計(jì)劃項(xiàng)目(2014-01-01-A-H-02-0002)
【分類號(hào)】：TQ163;TB383.2
【正文快照】： (1 State International Joint Research Center of Advanced Technology for Superhard Materials,Kunming University of Science andTechnology,Kunming 650093;2 Key Laboratory of Unconventional Metallurgy,Ministry of Education,Kunming University ofScience and Te

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本文編號(hào)：548775