發(fā)布時間：2017-06-25 09:10

  本文關(guān)鍵詞：循環(huán)冷卻水臭氧處理工藝測控系統(tǒng)的研究，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

【摘要】：本文針對國內(nèi)循環(huán)冷卻水臭氧處理工藝過程自動化程度低,很難實現(xiàn)閉環(huán)控制,造成水處理效果不明顯或資源浪費等問題,在分析了循環(huán)冷卻水臭氧處理過程機理特性及工藝流程的基礎(chǔ)上,提出了循環(huán)冷卻水臭氧處理工藝過程測控系統(tǒng)的整體設(shè)計方案,采用PLC+HMI組成的測控系統(tǒng),實現(xiàn)了循環(huán)水臭氧處理過程中各個關(guān)鍵工藝參數(shù)的測控。主要研究內(nèi)容如下：(1)結(jié)合臭氧氧化法處理冷卻水機理及其工藝特點的基礎(chǔ)上,對循環(huán)冷卻水臭氧處理工藝進行了改進。在此基礎(chǔ)上詳細分析了該工藝過程中存在的主要控制問題,給出了整個測控系統(tǒng)的總體結(jié)構(gòu)及其功能模塊設(shè)計。(2)在進行大量試驗研究后,選用氧化還原電位法(Oxidation Reduction Potential,ORP)作為本文工藝過程測控參數(shù)的測量方法。根據(jù)本文工藝的特點及控制要求,提出了兩點ORP測量方法,一點用于監(jiān)測臭氧水溶液的氧化能力的大小,另一點用于監(jiān)測循環(huán)水中有機物的降解程度,充分利用了ORP法的檢測特性。在此基礎(chǔ)上,設(shè)計完成了基于兩點ORP測量值的雙回路閉環(huán)控制策略,即基于改進的Bang-Bang控制的臭氧投量控制回路和N點離散型閥門開度控制回路。(3)分析工藝控制要求,建立了基于S7-200 SMART系列PLC和SMART LINE1000IE觸摸屏的循環(huán)水臭氧處理測控系統(tǒng)的硬件結(jié)構(gòu)。采用邏輯流程圖法和模塊設(shè)計相結(jié)合完成了測控系統(tǒng)PLC控制程序的設(shè)計。根據(jù)循環(huán)水臭氧處理工藝,結(jié)合PLC控制程序,設(shè)計了人機交互界面,利用觸摸屏代替了一般控制系統(tǒng)中的指示燈、開關(guān)按鈕、儀表顯示器等。(4)完成了循環(huán)冷卻水臭氧處理工藝測控系統(tǒng)的現(xiàn)場安裝調(diào)試,通過大量實驗對系統(tǒng)的有效性進行了驗證。
【關(guān)鍵詞】：循環(huán)水處理 測控系統(tǒng) ORP PLC 觸摸屏
【學(xué)位授予單位】：大連理工大學(xué)
【學(xué)位級別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2016
【分類號】：TQ085.4
【目錄】：

• 摘要4-5
• Abstract5-8
• 1 緒論8-14
• 1.1 研究背景8-9
• 1.2 水處理工業(yè)過程控制技術(shù)的發(fā)展9-10
• 1.3 循環(huán)冷卻水臭氧處理工藝國內(nèi)外發(fā)展狀況與存在的問題10-12
• 1.3.1 循環(huán)冷卻水臭氧處理工藝國內(nèi)外發(fā)展狀況10-11
• 1.3.2 循環(huán)冷卻水臭氧處理工藝存在的問題11-12
• 1.4 本文的選題及研究內(nèi)容12-14
• 2 循環(huán)冷卻水臭氧處理工藝過程測控系統(tǒng)設(shè)計14-21
• 2.1 循環(huán)冷卻水臭氧處理工藝流程及特點14-17
• 2.1.1 循環(huán)冷卻水臭氧處理工藝流程簡介15-17
• 2.1.2 循環(huán)冷卻水臭氧處理工藝的主要控制問題17
• 2.2 循環(huán)冷卻水臭氧處理工藝測控系統(tǒng)設(shè)計17-20
• 2.2.1 基本設(shè)計原則18
• 2.2.2 總體結(jié)構(gòu)設(shè)計18-20
• 2.3 本章小結(jié)20-21
• 3 基于兩點ORP值循環(huán)冷卻水臭氧處理雙回路控制的研究21-30
• 3.1 基于兩點ORP值循環(huán)冷卻水臭氧處理雙回路控制過程的研究21-25
• 3.1.1 ORP值與水溶臭氧濃度的函數(shù)關(guān)系21-23
• 3.1.2 兩點ORP測量的目的和意義23-24
• 3.1.3 基于兩點ORP值循環(huán)冷卻水臭氧處理雙回路控制流程簡介24-25
• 3.2 基于兩點ORP值循環(huán)冷卻水臭氧處理雙回路控制算法的研究25-29
• 3.2.1 臭氧投量控制算法的研究25-28
• 3.2.2 閥門開度控制算法的研究28-29
• 3.3 本章小結(jié)29-30
• 4 測控系統(tǒng)的工業(yè)化實現(xiàn)30-51
• 4.1 工業(yè)化實現(xiàn)技術(shù)30-31
• 4.2 控制系統(tǒng)的設(shè)計要求31-32
• 4.3 測控系統(tǒng)的硬件設(shè)計32-34
• 4.3.1 測控系統(tǒng)的硬件結(jié)構(gòu)32-33
• 4.3.2 主要硬件配置33-34
• 4.4 測控系統(tǒng)軟件設(shè)計34-46
• 4.4.1 主要控制單元的PLC軟件設(shè)計34-42
• 4.4.2 人機交互界面設(shè)計42-46
• 4.5 現(xiàn)場調(diào)試和實驗運行狀況46-50
• 4.6 本章小結(jié)50-51
• 結(jié)論51-53
• 參考文獻53-56
• 攻讀碩士學(xué)位期間發(fā)表學(xué)術(shù)論文情況56-57
• 致謝57-58

【相似文獻】

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