為了探究TiO₂薄膜在不同襯底材料上的光學(xué)特性和激光損傷閾值,以高阻硅、熔石英和k9玻璃為襯底材料,采用真空熱蒸發(fā)方法制備TiO₂薄膜,利用變角度寬光譜橢偏儀、紫外可見分光光度計(jì)和激光損傷測試系統(tǒng)表征不同襯底上薄膜的膜厚、折射率、消光系數(shù)、透過率、光學(xué)帶隙以及激光損傷閾值。研究結(jié)果表明:對比3種襯底材料,高阻硅上沉積的TiO₂薄膜具有高的折射率和低的消光系數(shù);熔石英上沉積的TiO₂薄膜具有高的透過率和寬的光學(xué)帶隙;k9玻璃上沉積的TiO₂薄膜具有窄的光學(xué)帶隙,熔石英和k9玻璃上TiO₂薄膜的激光損傷閾值相差不大。不同襯底上沉積的薄膜結(jié)構(gòu)不同,導(dǎo)致性能不同。

【文章頁數(shù)】：6 頁

【文章目錄】：
1 實(shí)驗(yàn)材料及方法
    1.1 樣品制備
    1.2 樣品測試
2 結(jié)果與討論
    2.1 不同襯底對薄膜光學(xué)常數(shù)的影響
    2.2 玻璃襯底對薄膜透過率和光學(xué)帶隙的影響
    2.3 不同襯底對薄膜激光損傷特性的影響
3 結(jié)論



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