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ICP-MS在高純稀土氧化物分析中探究

發(fā)布時間:2024-04-20 12:48
  文章主要對高純度稀土氧化物中微量金屬雜質(zhì)元素的電感耦合等離子體-質(zhì)譜法(ICP-MS)的檢測技術(shù)進(jìn)行了相關(guān)研究,其主要內(nèi)容包含了在對體-質(zhì)譜法進(jìn)行使用時發(fā)生的問題,并使用體-質(zhì)譜法對高純稀土化合物中的痕量雜質(zhì)進(jìn)行直接檢測,此后,結(jié)合體-質(zhì)譜法(ICP-MS)與分離技術(shù)的聯(lián)合使用來對高純稀土化合物中的痕量雜質(zhì)進(jìn)行測定。

【文章頁數(shù)】:2 頁

【文章目錄】:
1 在ICP-MS運用過程中出現(xiàn)的弊端
2 ICP-MS對高純稀土材料中痕量雜質(zhì)的直接檢測
    2.1 質(zhì)譜干擾以及處理方式
    2.2 基體效應(yīng)以及處理方式
3 結(jié)語



本文編號:3959430

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