Pt基凹面體的制備及其對(duì)CdS可見光分解水制氫性能的影響
【文章頁數(shù)】:73 頁
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【部分圖文】:
圖1-1光催化分解水反應(yīng)機(jī)理示意圖
圖1-1光催化分解水反應(yīng)機(jī)理示意圖[2]的分解電壓為1.23eV,但是由于水分解過程中過電位的存在,半導(dǎo)體光催化劑寬度通常要大于1.8eV。此外,光催化分解水產(chǎn)氫反應(yīng)需要滿足熱力學(xué)和動(dòng)力從熱力學(xué)上來說,光催化半導(dǎo)體材料的能帶位置要與析氫和析氧的反應(yīng)電勢(shì)相帶位置要比氫電....
圖1-2常見半導(dǎo)體光催化劑能帶位置圖
圖1-1光催化分解水反應(yīng)機(jī)理示意圖[2]的分解電壓為1.23eV,但是由于水分解過程中過電位的存在,半導(dǎo)體光催化劑寬度通常要大于1.8eV。此外,光催化分解水產(chǎn)氫反應(yīng)需要滿足熱力學(xué)和動(dòng)力從熱力學(xué)上來說,光催化半導(dǎo)體材料的能帶位置要與析氫和析氧的反應(yīng)電勢(shì)相帶位置要比氫電....
圖2-2不同合成溫度的PtCCs的TEM圖
合成溫度:a-160℃,b-180℃,c-200℃,d-220℃圖2-2不同合成溫度的PtCCs的TEM圖2-3為不同合成時(shí)間得到的PtCCs的透射電鏡照片。結(jié)合產(chǎn)氫性能測(cè)試s/CdS產(chǎn)氫活性最高,則控制合成溫度為200℃,改變合成時(shí)間為5....
圖2-3為不同合成時(shí)間得到的PtCCs的透射電鏡照片
合成溫度:a-160℃,b-180℃,c-200℃,d-220℃圖2-2不同合成溫度的PtCCs的TEM圖2-3為不同合成時(shí)間得到的PtCCs的透射電鏡照片。結(jié)合產(chǎn)氫性能測(cè)試s/CdS產(chǎn)氫活性最高,則控制合成溫度為200℃,改變合成時(shí)間為5....
本文編號(hào):3899916
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