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溫度對電子束沉積Nb 2 O 5 薄膜性能的影響

發(fā)布時間:2023-11-07 19:49
  氧化鈮作為一種重要的氧化物薄膜材料在可見到中波紅外波段廣泛應(yīng)用。基于電子束加熱蒸發(fā)方法,研究了不同溫度條件下一定厚度的氧化鈮薄膜的微觀結(jié)構(gòu)及特性,通過Kim振動模型擬合不同工藝條件下氧化鈮的光學(xué)常數(shù)色散分布,采用X射線衍射儀(X-Ray Diffraction,XRD)測試薄膜的結(jié)晶態(tài),并用原子力顯微鏡(Atomic Force Microscope,AFM)檢測薄膜表面粗糙度,分析溫度對膜層表面粗糙度的影響規(guī)律。

【文章頁數(shù)】:7 頁

【文章目錄】:
1 薄膜光學(xué)常數(shù)擬合模型
2 沉積實驗
3 實驗結(jié)果分析
    3.1 光譜性能測試及光學(xué)常數(shù)的準(zhǔn)確擬合
    3.2 Nb2O5薄膜XRD測試
    3.3 Nb2O5表面形貌分析
4 結(jié)論



本文編號:3861335

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