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電鍍電流密度對(duì)錫/電鍍銅接頭界面空洞的影響

發(fā)布時(shí)間:2022-10-15 12:35
  在電流密度分別為1.7,50mA·cm-2下電鍍制備了兩種電鍍銅基板,將其與錫粒回流焊接成錫/銅接頭,并在150℃老化不同時(shí)間(10,20d),觀察了電鍍銅基板表面和錫/銅接頭界面的形貌,分析了柯肯達(dá)爾空洞在老化過(guò)程中的演變機(jī)制。結(jié)果表明:經(jīng)老化處理后,兩種錫/銅接頭均在Cu3Sn/Cu界面形成空洞,空洞的密度隨著老化時(shí)間的延長(zhǎng)逐漸增大,高電流密度下的空洞密度也大;使用較高電流密度制備電鍍銅基板的接頭,未經(jīng)老化處理其界面已出現(xiàn)空洞,經(jīng)老化處理后,空洞逐漸聚集成為空腔,空腔內(nèi)表面成為銅元素的快速擴(kuò)散通道;電流密度會(huì)影響表面電鍍層的組織結(jié)構(gòu),從而影響后續(xù)老化過(guò)程中界面的組織結(jié)構(gòu)。 

【文章頁(yè)數(shù)】:5 頁(yè)

【文章目錄】:
0 引言
1 試樣制備與試驗(yàn)方法
2 試驗(yàn)結(jié)果與討論
    2.1 電鍍銅基板的表面形貌
    2.2 較低電流密度下接頭界面的微觀形貌
    2.3 較高電流密度下接頭界面的微觀形貌
3 結(jié)論


【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]63Sn-37Pb和Sn-3Ag-0.5Cu合金釬料的扭轉(zhuǎn)低周疲勞性能[J]. 郭洪強(qiáng).  機(jī)械工程材料. 2014(08)

博士論文
[1]Sn基釬料/Cu界面柯肯達(dá)爾空洞機(jī)理研究[D]. 楊揚(yáng).上海交通大學(xué) 2012



本文編號(hào):3691317

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