通過NH4+離子交換的方法獲得了HMFI分子篩膜,采用在線化學(xué)氣相沉積法（CVD）對(duì)其進(jìn)行晶內(nèi)孔道修飾,以提高其對(duì)H2的分離選擇性.實(shí)驗(yàn)考察了四乙氧基硅烷（TEOS）、甲基二乙氧基硅烷（MDES）和三甲基乙氧基硅烷（TMES）3種不同尺寸修飾源對(duì)膜性能的影響.結(jié)果表明,尺寸較小的TMES更容易擴(kuò)散進(jìn)入分子篩膜的晶內(nèi)孔道,從而獲得了更優(yōu)的H2/CO2分離性能,修飾后的膜在500℃下H2/CO2的分離因子可達(dá)45.9,H2的滲透性為1.43×10-7 mol/（m2·s·Pa）.同時(shí),通過質(zhì)譜（MS）分析了TMES在HMFI分子篩孔道中的裂解行為,探討了硅烷修飾的的沉積機(jī)理. 

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【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
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本文編號(hào)：3656444