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ICP-MS/MS直接測(cè)定高純Eu 2 O 3 中超痕量的銩、砷、硅

發(fā)布時(shí)間:2022-05-10 20:16
  運(yùn)用三重串聯(lián)電感耦合等離子質(zhì)譜(ICP-MS/MS)儀直接測(cè)定高純Eu2O3中超痕量的Tm,As和Si。采用H2的原位質(zhì)量法和O2質(zhì)量轉(zhuǎn)移法,有效克服了基體對(duì)待測(cè)元素的干擾。通過優(yōu)化儀器參數(shù)得到Tm,As和Si的背景等效濃度分別為0.0005763,0.08435,8.268μg·L-1。在選定條件下,樣品加標(biāo)回收率為95.74%~103.82%,相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差(RSD)為0.22%~4.38%。本方法簡(jiǎn)單實(shí)用,能夠滿足純度99.999%以上的高純Eu2O3中雜質(zhì)元素的快速測(cè)定。 

【文章頁(yè)數(shù)】:7 頁(yè)

【文章目錄】:
1 實(shí)驗(yàn)
    1.1 儀器與試劑
    1.2 標(biāo)準(zhǔn)溶液配制
    1.3 儀器參數(shù)
    1.4 樣品分析
2 結(jié)果與討論
    2.1 Eu2O3基體的干擾效應(yīng)及消除
        2.1.1 Eu2O3基體中Si的測(cè)定
        2.1.2 Eu2O3基體中As的測(cè)定
        2.1.3 Eu2O3基體中Tm的測(cè)定
    2.2 線性及檢出限
    2.3 分析結(jié)果,加標(biāo)回收及精密度
        2.3.1 方法精密度
        2.3.2 加標(biāo)回收率
    2.4 實(shí)際樣品分析
3 結(jié)論


【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
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[6]鎵的部分溶解富集-電感耦合等離子體發(fā)射光譜法測(cè)定高純氧化銪中非稀土雜質(zhì)[J]. 傅鐘臻,陳煒,蔡紹勤.  巖礦測(cè)試. 2003(03)
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本文編號(hào):3652624

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