運用三重串聯電感耦合等離子質譜（ICP-MS/MS）儀直接測定高純Eu₂O₃中超痕量的Tm,As和Si。采用H₂的原位質量法和O₂質量轉移法,有效克服了基體對待測元素的干擾。通過優(yōu)化儀器參數得到Tm,As和Si的背景等效濃度分別為0.0005763,0.08435,8.268μg·L^-1。在選定條件下,樣品加標回收率為95.74%~103.82%,相對標準偏差（RSD）為0.22%~4.38%。本方法簡單實用,能夠滿足純度99.999%以上的高純Eu₂O₃中雜質元素的快速測定。 

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【文章目錄】：
1 實驗
    1.1 儀器與試劑
    1.2 標準溶液配制
    1.3 儀器參數
    1.4 樣品分析
2 結果與討論
    2.1 Eu2O3基體的干擾效應及消除
        2.1.1 Eu2O3基體中Si的測定
        2.1.2 Eu2O3基體中As的測定
        2.1.3 Eu2O3基體中Tm的測定
    2.2 線性及檢出限
    2.3 分析結果,加標回收及精密度
        2.3.1 方法精密度
        2.3.2 加標回收率
    2.4 實際樣品分析
3 結論


【參考文獻】：
期刊論文
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本文編號：3652624