釹鐵硼表面脈沖電鍍Ni-Al/Ni-Cr復(fù)合鍍層的制備及性能研究
發(fā)布時(shí)間:2022-02-16 13:02
釹鐵硼磁性材料因其具有優(yōu)異的磁性能而被廣泛應(yīng)用,成為現(xiàn)代工業(yè)和電子技術(shù)領(lǐng)域十分重要的功能材料。由于釹是化學(xué)活性很高的金屬元素之一,而且釹鐵硼材料本身具有多相結(jié)構(gòu),各相間電化學(xué)位具有差異,導(dǎo)致釹鐵硼材料在暖濕氣流,電化學(xué)環(huán)境及長(zhǎng)時(shí)間的高溫環(huán)境下極易發(fā)生腐蝕,同時(shí)也會(huì)造成材料磁性能的下降,影響材料的使用。目前,釹鐵硼磁性材料防腐蝕處理主要采用表面防護(hù)方法,其中電鍍技術(shù)應(yīng)用廣泛,尤其脈沖電鍍技術(shù)在釹鐵硼磁性材料腐蝕防護(hù)方面表現(xiàn)出顯著的優(yōu)越性,復(fù)合電沉積則可以獲得性能優(yōu)異的釹鐵硼表面防護(hù)涂層。本文以低溫鍍鎳鍍液為基礎(chǔ)鍍液,以釹鐵硼磁性材料為基材,通過(guò)單脈沖電沉積方式,在釹鐵硼材料表面電沉積Ni鍍層,通過(guò)探究平均電流密度和占空比對(duì)鍍層性能的影響,選擇確定較佳脈沖電沉積參數(shù),并在這一參數(shù)條件下通過(guò)向基礎(chǔ)鍍液中添加納米Cr粉及納米Al粉制備脈沖NdFeB-Ni-Cr、NdFeB-Ni-Al復(fù)合鍍層。采用掃描電鏡(SEM)、能譜分析和XRD方法,分別觀察鍍層表面形貌,分析鍍層微觀結(jié)構(gòu);利用動(dòng)電位極化曲線和交流阻抗測(cè)試方法,研究不同條件下制備的鍍層在濃度為3.5%NaCl溶液中的耐腐蝕性能;利用顯微硬度...
【文章來(lái)源】:沈陽(yáng)工業(yè)大學(xué)遼寧省
【文章頁(yè)數(shù)】:60 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【部分圖文】:
不同電流密度條件下NdFeB-Ni鍍層的表面形貌
度條件下的 NdFeB-Ni 鍍層在 3.5%NaCl 溶液中l(wèi)ent circuit model of NdFeB-Ni coatings on diffein 3.5%NaCl solution下的 NdFeB-Ni 鍍層在 3.5%NaCl 溶液中的交emical parameters of Equivalent circuit of EIS foon different current densities in 3.5%NaCl solutioRs/(ohm cm2)Rp/(ohm cm2) 8.253 6182 9.524 7440 5.486 6880 6.186 4545 0.4時(shí),平均電流密度為1.0A/dm2、2.0A/deB-Ni鍍層顯微硬度與平均電流密度的關(guān)和表 3.3 中的硬度值可以看出,隨著平均當(dāng)平均電流密度為 2.0A/dm2時(shí),硬度值逐漸增加時(shí),陰極極化逐漸增大,而陰
圖 3.6 不同占空比條件下 NdFeB-Ni 鍍層的形貌Fig.3.6 Surface morphology of NdFeB-Ni coatings on different pulse duty cycle(a-r=0.2,b-r=0.4,c- r=0.6,d- r=0.8)圖 3.7 是平均電流密度為 2.0A/dm2時(shí),脈沖占空比分別為 0.2,0.4,0.6,0.8 條NdFeB-Ni鍍層在濃度為 3.5%的NaCl溶液中的動(dòng)電位極化曲線。經(jīng)分析可知鍍層的學(xué)腐蝕參數(shù),所對(duì)應(yīng)的數(shù)據(jù)見表 3.4 所示。由圖 3.7 可以看到占空比為 0.4 時(shí)鍍層度為 3.5%的NaCl溶液中鈍化區(qū)最平整,由表 3.4 中的數(shù)據(jù)可知,不同占空比條件Ni鍍層自腐蝕電位Ecorr比較接近,但占空比為 0.4 時(shí)鍍層的過(guò)鈍電位Etp明顯高于其件的鍍層的過(guò)鈍電位,而該條件下鍍層的維鈍電位Ep最小,說(shuō)明鈍化區(qū)最大,這 3.7 中看到的動(dòng)電位極化曲線結(jié)果一致,表明占空比為 0.4 時(shí)鍍層耐腐蝕性能最好
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]中國(guó)稀土永磁產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀及技術(shù)發(fā)展新動(dòng)向[J]. 劉榮明. 新材料產(chǎn)業(yè). 2013(01)
[2]釹鐵硼稀土磁體產(chǎn)業(yè)發(fā)展及市場(chǎng)前景[J]. 胡伯平. 磁性材料及器件. 2012(06)
[3]NdFeB永磁材料腐蝕與防護(hù)研究進(jìn)展[J]. 宋振綸. 磁性材料及器件. 2012(04)
[4]釹鐵硼永磁材料表面防護(hù)技術(shù)的研究進(jìn)展[J]. 嚴(yán)芬英,趙春英,張琳. 電鍍與精飾. 2012(08)
[5]脈沖電沉積工藝參數(shù)對(duì)Ni-W-P合金鍍層性能的影響[J]. 孫曉東,趙芳霞,張振忠. 電鍍與環(huán)保. 2012(03)
[6]釹鐵硼電鍍技術(shù)生產(chǎn)現(xiàn)狀與展望[J]. 劉偉,侯進(jìn). 電鍍與精飾. 2012(04)
[7]脈沖電鍍Ni-P合金工藝及鍍層的耐蝕性能[J]. 龍慧,陳小華,易斌,曾斌,曾雄,劉云泉. 材料保護(hù). 2012(03)
[8]釹鐵硼永磁材料的性能及研究進(jìn)展[J]. 胡文艷. 現(xiàn)代電子技術(shù). 2012(02)
[9]Nd-Dy-Fe-Co-B磁體的環(huán)境加速腐蝕行為研究[J]. 李家節(jié),李安華,劉國(guó)軍,趙睿,朱明剛,李衛(wèi). 功能材料. 2011(03)
[10]燒結(jié)NdFeB磁鋼表面層抗腐蝕實(shí)驗(yàn)分析[J]. 劉朝暉,劉麗華,關(guān)玉,嚴(yán)世洪. 微特電機(jī). 2010(04)
碩士論文
[1]NdFeB表面NiP/TiO2復(fù)合膜形成與耐蝕性研究及廢液中Ni~(2+)去除[D]. 趙靜.燕山大學(xué) 2006
本文編號(hào):3628015
【文章來(lái)源】:沈陽(yáng)工業(yè)大學(xué)遼寧省
【文章頁(yè)數(shù)】:60 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【部分圖文】:
不同電流密度條件下NdFeB-Ni鍍層的表面形貌
度條件下的 NdFeB-Ni 鍍層在 3.5%NaCl 溶液中l(wèi)ent circuit model of NdFeB-Ni coatings on diffein 3.5%NaCl solution下的 NdFeB-Ni 鍍層在 3.5%NaCl 溶液中的交emical parameters of Equivalent circuit of EIS foon different current densities in 3.5%NaCl solutioRs/(ohm cm2)Rp/(ohm cm2) 8.253 6182 9.524 7440 5.486 6880 6.186 4545 0.4時(shí),平均電流密度為1.0A/dm2、2.0A/deB-Ni鍍層顯微硬度與平均電流密度的關(guān)和表 3.3 中的硬度值可以看出,隨著平均當(dāng)平均電流密度為 2.0A/dm2時(shí),硬度值逐漸增加時(shí),陰極極化逐漸增大,而陰
圖 3.6 不同占空比條件下 NdFeB-Ni 鍍層的形貌Fig.3.6 Surface morphology of NdFeB-Ni coatings on different pulse duty cycle(a-r=0.2,b-r=0.4,c- r=0.6,d- r=0.8)圖 3.7 是平均電流密度為 2.0A/dm2時(shí),脈沖占空比分別為 0.2,0.4,0.6,0.8 條NdFeB-Ni鍍層在濃度為 3.5%的NaCl溶液中的動(dòng)電位極化曲線。經(jīng)分析可知鍍層的學(xué)腐蝕參數(shù),所對(duì)應(yīng)的數(shù)據(jù)見表 3.4 所示。由圖 3.7 可以看到占空比為 0.4 時(shí)鍍層度為 3.5%的NaCl溶液中鈍化區(qū)最平整,由表 3.4 中的數(shù)據(jù)可知,不同占空比條件Ni鍍層自腐蝕電位Ecorr比較接近,但占空比為 0.4 時(shí)鍍層的過(guò)鈍電位Etp明顯高于其件的鍍層的過(guò)鈍電位,而該條件下鍍層的維鈍電位Ep最小,說(shuō)明鈍化區(qū)最大,這 3.7 中看到的動(dòng)電位極化曲線結(jié)果一致,表明占空比為 0.4 時(shí)鍍層耐腐蝕性能最好
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]中國(guó)稀土永磁產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀及技術(shù)發(fā)展新動(dòng)向[J]. 劉榮明. 新材料產(chǎn)業(yè). 2013(01)
[2]釹鐵硼稀土磁體產(chǎn)業(yè)發(fā)展及市場(chǎng)前景[J]. 胡伯平. 磁性材料及器件. 2012(06)
[3]NdFeB永磁材料腐蝕與防護(hù)研究進(jìn)展[J]. 宋振綸. 磁性材料及器件. 2012(04)
[4]釹鐵硼永磁材料表面防護(hù)技術(shù)的研究進(jìn)展[J]. 嚴(yán)芬英,趙春英,張琳. 電鍍與精飾. 2012(08)
[5]脈沖電沉積工藝參數(shù)對(duì)Ni-W-P合金鍍層性能的影響[J]. 孫曉東,趙芳霞,張振忠. 電鍍與環(huán)保. 2012(03)
[6]釹鐵硼電鍍技術(shù)生產(chǎn)現(xiàn)狀與展望[J]. 劉偉,侯進(jìn). 電鍍與精飾. 2012(04)
[7]脈沖電鍍Ni-P合金工藝及鍍層的耐蝕性能[J]. 龍慧,陳小華,易斌,曾斌,曾雄,劉云泉. 材料保護(hù). 2012(03)
[8]釹鐵硼永磁材料的性能及研究進(jìn)展[J]. 胡文艷. 現(xiàn)代電子技術(shù). 2012(02)
[9]Nd-Dy-Fe-Co-B磁體的環(huán)境加速腐蝕行為研究[J]. 李家節(jié),李安華,劉國(guó)軍,趙睿,朱明剛,李衛(wèi). 功能材料. 2011(03)
[10]燒結(jié)NdFeB磁鋼表面層抗腐蝕實(shí)驗(yàn)分析[J]. 劉朝暉,劉麗華,關(guān)玉,嚴(yán)世洪. 微特電機(jī). 2010(04)
碩士論文
[1]NdFeB表面NiP/TiO2復(fù)合膜形成與耐蝕性研究及廢液中Ni~(2+)去除[D]. 趙靜.燕山大學(xué) 2006
本文編號(hào):3628015
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