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金剛石真空窗口的制備

發(fā)布時間:2017-09-02 19:11

  本文關(guān)鍵詞:金剛石真空窗口的制備


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【摘要】:CVD金剛石具有很多卓越的性能,與鈹、鈦等真空窗口材料相比,金剛石將其優(yōu)異性能結(jié)合在了一起,金剛石不僅具有很好的機(jī)械性能(例如高硬度、高楊氏模量),其光學(xué)和熱學(xué)性能(例如高熱導(dǎo)率、低熱膨脹系數(shù)、寬的光譜透過范圍等)也十分優(yōu)異。正是這優(yōu)越性性的組合,使金剛石能夠成為了極佳的真空窗口材料。本文采用微波等離子體化學(xué)氣相沉積(MPCVD)方法制備了自支撐納米金剛石膜,且將自支撐納米金剛石膜與金屬法蘭焊接制備金剛石真空窗口。在硅襯底上以乙醇和氫氣為氣源制備金剛石膜,研究了襯底表面不同處理對金剛石形核密度的影響;利用發(fā)射光譜法在線診斷了乙醇和氫氣等離子體,研究了乙醇體積分?jǐn)?shù)、沉積氣壓和襯底溫度對制備金剛石的影響。采用分步法制備了自支撐納米金剛石膜并研究其漏氣率性能;研究了自支撐納米金剛石膜與金屬法蘭的焊接工藝。其結(jié)果表明:(1)對襯底研磨后微粉超聲處理能夠提高金剛石的形核密度,形核密度達(dá)到109cm~(-2)。(2)乙醇和氫氣體系微波等離子體中主要基團(tuán)有H_α、H_β、CH、C_2和OH、CO。各基團(tuán)在水平方向呈對稱分布,各基團(tuán)在襯底附近的濃度比等離子體邊緣的高。隨著乙醇體積分?jǐn)?shù)的增加,含碳基團(tuán)增加,含氧基團(tuán)先增后減,電子溫度降低,金剛石膜中的非金剛石相越來越多,金剛石的晶粒減小。隨著工作氣壓的增加,含碳基團(tuán)增加,含氧基團(tuán)先增后減,電子溫度現(xiàn)急劇降低后緩慢降低,降低氣壓有利于制備納米金剛石。隨著硅基片溫度下降,薄膜中金剛石的晶粒減小,非金剛石碳含量增加。(3)厚度為10μm的納米金剛石自支撐薄膜的漏氣率為7.2×10~(-9)Pa·m~3/s。隨著自支撐納米金剛石窗口厚度的增加和晶粒的減小,其漏氣率明顯增加。(4)采用微波等離子體進(jìn)行了因瓦合金法蘭和自支撐納米金剛石窗口的焊接實驗,研究表明金剛石和因瓦合金之間可以較好焊接,但由于金剛石窗口以環(huán)形硅框架支撐,硅的熱膨脹系數(shù)與因瓦合金相差較大,導(dǎo)致環(huán)形硅框架破碎,因此需要對自支撐納米金剛石膜的框架進(jìn)行后續(xù)的研究。
【關(guān)鍵詞】:MPCVD 金剛石真空窗口 焊接 乙醇 發(fā)射光譜 漏氣率
【學(xué)位授予單位】:武漢工程大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2016
【分類號】:TQ163
【目錄】:
  • 摘要5-6
  • Abstract6-10
  • 第1章 緒論10-22
  • 1.1 金剛石的晶體結(jié)構(gòu)10-11
  • 1.2 金剛石的性質(zhì)及應(yīng)用11-14
  • 1.2.1 機(jī)械性能及應(yīng)用11-12
  • 1.2.2 光學(xué)性能及應(yīng)用12-13
  • 1.2.3 熱學(xué)性能及應(yīng)用13-14
  • 1.2.4 電學(xué)性能及應(yīng)用14
  • 1.3 金剛石膜的制備14-19
  • 1.3.1 CVD金剛石膜的生長機(jī)理15-16
  • 1.3.2 金剛石膜的制備方法16-19
  • 1.4 本課題的研究內(nèi)容19-22
  • 第2章 實驗裝置22-34
  • 2.1 實驗裝置22-29
  • 2.1.1 微波等離子體化學(xué)氣相沉積裝置22-26
  • 2.1.2 等離子體發(fā)射光譜儀26-27
  • 2.1.3 微波等離子體焊接裝置27-29
  • 2.2 金剛石膜的表征29-34
  • 2.2.1 拉曼光譜(Raman)29-30
  • 2.2.2 原子力顯微鏡(AFM)30-31
  • 2.2.3 X衍射分析(XRD)31
  • 2.2.4 掃描電子顯微鏡(SEM)31-32
  • 2.2.5 漏氣率測量32-34
  • 第3章 金剛石膜的制備34-56
  • 3.1 引言34
  • 3.2 襯底表面處理對形核密度的影響34-37
  • 3.3 乙醇與氫氣等離子體發(fā)射光譜分析37-46
  • 3.3.1 乙醇與氫氣等離子體中基團(tuán)的空間分布39-41
  • 3.3.2 乙醇體積分?jǐn)?shù)對等離子體中基團(tuán)的影響41-43
  • 3.3.3 工作氣壓對等離子體中基團(tuán)的影響43-46
  • 3.4 沉積工藝對金剛石膜的影響46-54
  • 3.4.1 乙醇體積分?jǐn)?shù)對金剛石膜的影響46-50
  • 3.4.2 工作氣壓對金剛石膜的影響50-52
  • 3.4.3 襯底溫度對金剛石膜的影響52-54
  • 3.5 本章小結(jié)54-56
  • 第4章 金剛石真空窗口的制備56-76
  • 4.1 引言56-57
  • 4.2 納米金剛石自支撐膜的制備57-63
  • 4.2.1 納米金剛石膜的表征58-60
  • 4.2.2 自支撐納米金剛石膜的漏氣率60-63
  • 4.3 自支撐納米金剛石膜與金屬法蘭的焊接63-73
  • 4.3.1 溫度曲線的控制63-65
  • 4.3.2 焊料和金屬法蘭材質(zhì)的選取與性質(zhì)摸底65-67
  • 4.3.3 金剛石真空窗口釬焊的工藝流程設(shè)計67-70
  • 4.3.4 工藝結(jié)果總結(jié)70-73
  • 4.4 本章小結(jié)73-76
  • 第5章 論文結(jié)論與展望76-78
  • 5.1 論文總結(jié)76-77
  • 5.2 展望77-78
  • 參考文獻(xiàn)78-84
  • 碩士期間發(fā)表的論文及專利84-86
  • 致謝86

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本文編號:780363

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