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ZnO納米結(jié)構(gòu)的制備及其光、光電催化性能

發(fā)布時(shí)間:2017-08-30 16:21

  本文關(guān)鍵詞:ZnO納米結(jié)構(gòu)的制備及其光、光電催化性能


  更多相關(guān)文章: 氧化鋅 納米棒 納米片 光催化 光電催化


【摘要】:近年來(lái),金屬氧化物半導(dǎo)體納米材料光催化過程具有降解效率高、穩(wěn)定性好、易于合成及無(wú)毒環(huán)保等優(yōu)點(diǎn),在污水處理領(lǐng)域得到了廣泛關(guān)注。在眾多的金屬氧化物半導(dǎo)體材料中,ZnO作為一種n型直接寬帶隙半導(dǎo)體材料,已被證明在紫外光條件下具有更高的光催化活性,然而,光生載流子復(fù)合率較高,降低其降解效率,以及催化劑的分離回收、再利用較難。基于此,本文通過在金屬襯底上合成ZnO納米材料,無(wú)需分離回收,同時(shí)利用金屬做電極構(gòu)成光電催化體系,研究該體系光、光電催化性能,討論其催化機(jī)制及影響催化性能的因素。主要結(jié)果如下:首先,采用化學(xué)溶液法,以Ag棒為襯底,調(diào)控氨水在生長(zhǎng)液中的滴加量,分別制備了三種近似垂直于襯底生長(zhǎng)的ZnO納米棒陣列。所得樣品均為六角纖鋅礦結(jié)構(gòu),直徑約為300nm~400nm,禁帶寬度均在3.1eV左右。三種樣品中,氨水滴加量為4ml的樣品光催化降解羅丹明B的效果最好。PL表征結(jié)果顯示,該樣品表面氧空位濃度高于其他兩個(gè)樣品,高的氧空位濃度可能導(dǎo)致了樣品高光催化活性。選取氨水滴加量為4ml的樣品構(gòu)光電催化系統(tǒng),研究了實(shí)驗(yàn)參數(shù)對(duì)光電催化降解效率的影響,實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示,優(yōu)化的實(shí)驗(yàn)條件為:外加電壓0.4V,電極間距0.1cm,羅丹明B初始濃度5mg/L,支持電解質(zhì)Na_2SO_4的濃度0.1mol/L。該條件下,ZnO納米棒陣列光電催化降解效率最高,約38%,外加電場(chǎng)有效地提高了降解效率,約為光催化效率的兩倍。其次,利用相同的實(shí)驗(yàn)條件和方法,通過襯底的調(diào)控,在Al片上控制合成了纖鋅礦結(jié)構(gòu)的ZnO納米片,納米片大致垂直襯底,厚度約為200nm。在優(yōu)化的實(shí)驗(yàn)條件下,ZnO納米片光催化降解羅丹明B的效率約為36%,光電催化降解效率卻僅為24%。在相同實(shí)驗(yàn)條件下,同等催化劑量的ZnO納米棒陣列的光催化效率約為33%,而光電催化降解效率卻在電場(chǎng)的作用下被提高至61%。ZnO納米片結(jié)構(gòu)中的極性面暴露比率比ZnO納米棒陣列的高,極性面具有更好的光催化活性,導(dǎo)致ZnO納米片的光催化性能高于ZnO納米棒陣列。ZnO納米片在外加電壓的作用下,可能由于襯底和形貌等因素的影響,催化效率反而降低了。
【關(guān)鍵詞】:氧化鋅 納米棒 納米片 光催化 光電催化
【學(xué)位授予單位】:鄭州大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2016
【分類號(hào)】:O643.36;TQ132.41
【目錄】:
  • 摘要4-6
  • Abstract6-10
  • 1 緒論10-21
  • 1.1 研究的背景及意義10-11
  • 1.2 ZnO的結(jié)構(gòu)及基本性質(zhì)11-13
  • 1.3 光催化13-20
  • 1.3.1 ZnO光催化的基本原理13-14
  • 1.3.2 提高ZnO光催化性能的方法14-20
  • 1.3.2.1 貴金屬修飾14-16
  • 1.3.2.2 半導(dǎo)體復(fù)合16-17
  • 1.3.2.3 摻雜17-19
  • 1.3.2.4 光電催化19-20
  • 1.4 本論文的研究目的和內(nèi)容20-21
  • 2 Ag棒上ZnO納米棒陣列的光、光電催化性能21-45
  • 2.1 引言21-22
  • 2.2 ZnO納米棒陣列的制備及表征22-32
  • 2.2.1 實(shí)驗(yàn)所用試劑和儀器22-23
  • 2.2.2 ZnO納米棒陣列的制備23-24
  • 2.2.3 ZnO納米棒陣列的表征及結(jié)果分析24-27
  • 2.2.4 ZnO納米棒陣列的光致發(fā)光27-32
  • 2.3 ZnO納米棒陣列的光催化性能32-34
  • 2.3.1 ZnO納米棒陣列光催化活性測(cè)試過程32-33
  • 2.3.2 結(jié)果與討論33-34
  • 2.4 ZnO納米棒陣列的光電催化性能34-44
  • 2.4.1 光電催化實(shí)驗(yàn)過程34-35
  • 2.4.2 ZnO納米棒陣列光電催化降解羅丹明B的影響因素35-44
  • 2.4.2.1 Zn O納米棒光電催化性能35-36
  • 2.4.2.2 電壓大小的影響36-38
  • 2.4.2.3 電極間距的影響38-40
  • 2.4.2.4 污染物初始濃度的影響40-41
  • 2.4.2.5 Na_2SO_4濃度的影響41-43
  • 2.4.2.6 穩(wěn)定性43-44
  • 2.5 本章小結(jié)44-45
  • 3 Al片上ZnO納米片的光、光電催化性能45-56
  • 3.1 引言45-46
  • 3.2 ZnO納米片的制備及表征46-48
  • 3.2.1 ZnO納米片的制備46-47
  • 3.2.2 ZnO納米片的表征測(cè)試及結(jié)果分析47-48
  • 3.3 ZnO結(jié)構(gòu)片光催化及光電催化性能48-54
  • 3.3.1 ZnO納米片催化反應(yīng)實(shí)驗(yàn)過程48-49
  • 3.3.2 ZnO納米片的光電催化性能49-52
  • 3.3.3 不同ZnO納米結(jié)構(gòu)催化性能差異的分析52-54
  • 3.3.3.1 光催化性能差異52-54
  • 3.3.3.2 光電催化性能差異54
  • 3.4 本章小結(jié)54-56
  • 4 結(jié)論與展望56-58
  • 4.1 結(jié)論56-57
  • 4.2 展望57-58
  • 參考文獻(xiàn)58-68
  • 致謝68-69

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本文編號(hào):760338

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