原位光沉積Cu提升UiO-66-NH 2 光催化制氫性能的研究
發(fā)布時(shí)間:2024-02-14 18:40
金屬-有機(jī)骨架(MOFs)材料UiO-66-NH2用于光催化分解水制氫需要負(fù)載貴金屬助催化劑,如Pt,但考慮貴金屬價(jià)格昂貴,筆者以?xún)r(jià)格低廉的過(guò)渡金屬Cu做產(chǎn)氫助催化劑,采用原位光沉積方法制備Cu/UiO-66-NH2復(fù)合光催化材料.結(jié)果表明,沉積Cu可以促進(jìn)UiO-66-NH2的可見(jiàn)光光催化制氫性能.在優(yōu)化的Cu擔(dān)載量為6.0%(m/m),Cu/UiO-66-NH2最高產(chǎn)氫速率為40μmol·h-1·g-1,與負(fù)載1.0%-Pt/UiO-66-NH2(m/m)材料的產(chǎn)氫速率相當(dāng).高光催化制氫性能歸因于UiO-66-NH2中光生電子可以向Cu助催化劑傳輸,從而提升電子-空穴對(duì)的分離.實(shí)驗(yàn)結(jié)果為過(guò)渡金屬用作MOFs產(chǎn)氫助催化劑提供了實(shí)驗(yàn)基礎(chǔ).
【文章頁(yè)數(shù)】:8 頁(yè)
【文章目錄】:
1 實(shí)驗(yàn)部分
1.1 實(shí)驗(yàn)試劑
1.2 主要儀器
1.3 材料的制備
(1) UiO-66-NH2 (UN)的制備:
(2) Cu/UN樣品的制備:
1.4 光催化制氫實(shí)驗(yàn)
1.5 電化學(xué)測(cè)試
2 結(jié)果與討論
2.1 X射線(xiàn)衍射(XRD)與紅外圖譜(FT-IR)分析
2.2 樣品的形貌分析
2.3 紫外-可見(jiàn)吸收光譜(UV-Vis)分析
2.4 X射線(xiàn)光電子能譜(XPS)分析
2.5 光催化制氫性能的評(píng)價(jià)
2.6 光催化制氫機(jī)制
3 結(jié)束語(yǔ)
本文編號(hào):3898423
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1 實(shí)驗(yàn)部分
1.1 實(shí)驗(yàn)試劑
1.2 主要儀器
1.3 材料的制備
(1) UiO-66-NH2 (UN)的制備:
(2) Cu/UN樣品的制備:
1.4 光催化制氫實(shí)驗(yàn)
1.5 電化學(xué)測(cè)試
2 結(jié)果與討論
2.1 X射線(xiàn)衍射(XRD)與紅外圖譜(FT-IR)分析
2.2 樣品的形貌分析
2.3 紫外-可見(jiàn)吸收光譜(UV-Vis)分析
2.4 X射線(xiàn)光電子能譜(XPS)分析
2.5 光催化制氫性能的評(píng)價(jià)
2.6 光催化制氫機(jī)制
3 結(jié)束語(yǔ)
本文編號(hào):3898423
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