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基于SDC-CuO隔離層的中溫固體氧化物電解池

發(fā)布時間:2023-08-03 19:25
  隔離層位于中溫固體氧化物電解池(solid oxide electrolysis cell,SOEC)的氧電極與電解質(zhì)之間,阻止兩者相互反應(yīng)。為提高以Ce0.85Sm0.15O2-δ(SDC)為隔離層的固體氧化物電解池(SOEC)的電化學性能,使用向SDC中加入過渡族金屬氧化物CuO的方法,利用CuO對SDC起到助燒結(jié)作用,提高SDC隔離層的致密度,改善其作為隔離層性能。為驗證該方法是否可行,分別制備了以SDC和SDC-CuO作為隔離層的SOEC,并對其進行了表面微觀形貌、電化學性能研究。研究結(jié)果表明,SDC-CuO隔離層的表面微觀形貌顯示出較為致密的結(jié)構(gòu),能夠起到更好的元素擴散阻礙作用;在開路電壓及工作溫度800℃的條件下,SDC-CuO為隔離層的SOEC極化電阻明顯低于SDC作為隔離層的SOEC極化電阻,證明通過加入CuO提高SDC隔離層性能進而改善SOEC性能的想法是可行的。

【文章頁數(shù)】:4 頁

【文章目錄】:
0 引言
1 實驗方法
    1.1 樣品的制備
    1.2 樣品的測試
2 結(jié)果與討論
3 結(jié)論



本文編號:3838668

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