本文選題：電鑄鎳 + 氧化膜��； 參考：《中國有色金屬學(xué)報》2017年03期

【摘要】：研究電鑄鎳層的微觀結(jié)構(gòu)和表面氧化膜的形成、硫酸酸蝕去除氧化膜的過程及其對非連續(xù)電鑄后鎳層結(jié)合致密度的影響。利用X射線衍射儀(XRD)和掃描電鏡(SEM)對電鑄鎳層的微觀結(jié)構(gòu)進(jìn)行表征,利用能譜儀(EDS)和高精度電子天平研究鎳層表面氧元素含量,采用掃描電鏡觀測二次電鑄后鎳層間結(jié)合致密度。結(jié)果表明:電鑄鎳層具有明顯的(100)晶面擇優(yōu)取向,120 min后,鎳層表面基本氧化完全;氧化膜隨著硫酸酸蝕時間的增加而不斷損失,10%質(zhì)量分?jǐn)?shù)的硫酸酸蝕60 min可以除去氧化完全的鎳層表面的氧化膜,非連續(xù)電鑄所得雙層鎳層之間結(jié)合致密。
[Abstract]:The microstructure of electroforming nickel layer and the formation of surface oxide film were studied. The process of removing oxide film by sulfuric acid etching and its effect on the bonding density of nickel layer after discontinuous electroforming were studied. The microstructure of electroformed nickel layer was characterized by X-ray diffraction (XRD) and scanning electron microscopy (SEM). The surface oxygen content of nickel layer was studied by energy dispersive spectroscopy (EDS) and high precision electron balance. The interlaminar bonding densities of nickel after secondary electroforming were observed by scanning electron microscope (SEM). The results show that the surface of the electroformed nickel layer is completely oxidized after the preferred orientation of (100) crystal plane is 120 min. With the increase of sulfuric acid etching time, the oxide film can be removed from the surface of the completely oxidized nickel layer with the loss of 10% mass fraction of sulfuric acid for 60 min, and the bindings between the double nickel layers obtained by discontinuous electroforming are dense.
【作者單位】： 吉林大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院教育部汽車材料重點實驗室;吉林科爾物流涂裝設(shè)備有限公司;
【基金】：吉林省科技廳科技發(fā)展計劃資助項目(20150301002G X) 長春市科技計劃項目(15SS15)~~
【分類號】：TQ153.43

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本文編號：2115975