本文選題：激光刻蝕 + 等離子體　； 參考：《應(yīng)用激光》2017年05期

【摘要】：通過控制變量法研究了激光能量密度、加工速度、重復(fù)頻率、刻蝕次數(shù)等激光加工參數(shù)對紫外激光誘導(dǎo)等離子體刻蝕Pyrex7740玻璃刻蝕深度和表面刻蝕質(zhì)量(包括邊緣是否齊整、崩邊、碎裂等)的影響規(guī)律。結(jié)果表明,以銅膜作為吸收層的紫外激光誘導(dǎo)等離子體刻蝕Pyrex7740玻璃的激光能量密度閾值在1.54~2.10J/cm~2之間,且在一定范圍內(nèi)激光能量密度越大,刻蝕深度越深,等離子體越穩(wěn)定,刻蝕質(zhì)量越好;激光刻蝕速度過慢或過快都會造成等離子體不穩(wěn)定,對刻蝕質(zhì)量產(chǎn)生不良影響,即并非光斑重疊度越大刻蝕效果越好。研究結(jié)果為激光誘導(dǎo)等離子體精密刻蝕Pyrex7740玻璃及其他光學(xué)透明材料刻蝕工藝優(yōu)化和參數(shù)選取提供參考。
[Abstract]:The effects of laser processing parameters such as laser energy density, processing speed, repetition rate and etching times on the etching depth and surface quality of Pyrex 7740 glass etched by ultraviolet laser induced plasma were studied by controlling variable method. The law of influence of breakage, fragmentation, etc. The results show that the laser energy density threshold of Pyrex 7740 glass etched by ultraviolet laser induced by copper film is between 1.54 and 2.10 J / cm ~ (2), and the larger the laser energy density is, the deeper the etching depth is and the more stable the plasma is. The better the etching quality is, the lower the laser etching rate is, the more unstable the plasma is, and the worse the etching quality is, that is, the better the etching effect is, the greater the overlap degree of the laser spot is, the better the etching quality is. The results provide a reference for laser induced plasma precision etching of Pyrex 7740 glass and other optical transparent materials.
【作者單位】： 青島理工大學(xué)山東省激光綠色智能制造工程技術(shù)研究中心;溫州大學(xué)浙江省激光加工機器人重點實驗室;
【基金】：浙江省錢江人才計劃資助項目(項目編號:QJD1402011) 山東省重大關(guān)鍵技術(shù)資助項目(項目編號:2016ZDJS02A15) 溫州市公益技術(shù)研究工業(yè)資助項目(項目編號:G20140052) 山東省泰山學(xué)者工程專項經(jīng)費資助項目(項目編號:TS201511038)
【分類號】：TN249;TQ171.68

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