本文選題：酸性氯化銅蝕刻液　切入點：氧化亞銅　出處：《電鍍與涂飾》2017年11期

【摘要】：以某PCB(印制線路板)廠的酸性CuCl_2蝕刻廢液為原料,采用液相法制備Cu_2O,并對其中的NaCl進行回收。研究了水合肼與廢液中Cu~(2+)的濃度比、pH、反應溫度、時間等參數(shù)對Cu_2O純度的影響,得到最佳工藝條件為:先在水合肼與Cu~(2+)的濃度比為0.2625、pH=4~5和室溫之下沉淀和還原,再在pH=12、100 ℃之下取代和脫水反應1 h。所得Cu_2O的純度達98.4%,銅雜質(zhì)含量小于0.07%,滿足HG/T 2961 2010中優(yōu)等品的要求。回收的NaCl純度高于97.5%,符合GB/T 5462 2015中二級精制工業(yè)鹽的要求。
[Abstract]:CuSP _ 2O was prepared by liquid phase method from acid CuCl_2 etching waste liquid from a PCB plant, and the NaCl was recovered. The effects of the concentration ratio of hydrazine hydrate to Cu~(2 in waste liquid on the purity of Cu_2O were studied, such as pH value, reaction temperature, reaction time and so on. The optimum technological conditions were obtained as follows: the concentration ratio of hydrazine hydrate to Cu~(2 was 0.2625 渭 g pH ~ 4N _ 5 and precipitation and reduction at room temperature. The purity of Cu_2O was 98.4 and the content of copper impurity was less than 0.07, which met the requirement of high grade in HG/T 2961 ~ 2010. The purity of recovered NaCl was higher than 97.5g, which met the requirement of secondary refined industrial salt of GB/T 5462 ~ 2015.
【作者單位】： 合肥工業(yè)大學化學與化工學院;
【分類號】：TQ131.12;TQ131.21;X76

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本文編號：1661851