本文選題：磁控濺射　切入點(diǎn)：多孔玻璃　出處：《海南大學(xué)》2017年碩士論文　論文類(lèi)型：學(xué)位論文

【摘要】：隨著鍍膜玻璃這一產(chǎn)業(yè)的不斷發(fā)展,對(duì)鍍膜玻璃的需求會(huì)越來(lái)越高,行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)也越來(lái)越嚴(yán)格,因此,開(kāi)發(fā)性能優(yōu)越的鍍膜玻璃已經(jīng)成為當(dāng)今研究的熱點(diǎn)。本文從提高鍍膜玻璃的可見(jiàn)光透過(guò)率和提高鍍膜玻璃的膜基結(jié)合力兩個(gè)方面,分別開(kāi)發(fā)了兩種新型玻璃基板,并對(duì)其進(jìn)行鍍膜,研究了這兩種新型鍍膜玻璃在所需性能上的影響。首先為了提高鍍膜玻璃的可見(jiàn)光透過(guò)率,本研究通過(guò)反膠束溶液刻蝕法制備出一種新型玻璃基板,即多孔增透玻璃。表面形成了蜂窩狀的多孔膜層,減小了可見(jiàn)光的反射率,從而使可見(jiàn)光平均透過(guò)率提高了 7%。由于避免了使用HF或氟硅酸,因此這種化學(xué)刻蝕環(huán)境友好。隨后通過(guò)一系列射頻磁控濺射實(shí)驗(yàn),探究出了可見(jiàn)光平均透過(guò)率高,紫外截止率最高的最佳條件。在此條件下,分別在制備的多孔增透玻璃和普通玻璃上鍍CeO2/TiO2防紫外線膜。并采用紫外-可見(jiàn)分光光度計(jì)、SEM、XRD、XPS等測(cè)試手段對(duì)樣品進(jìn)行了分析表征。結(jié)果表明,在相同的鍍膜條件下,當(dāng)鍍膜后多孔增透玻璃與鍍膜普通玻璃的紫外光阻隔率均為99%時(shí),多孔增透玻璃鍍膜后的可見(jiàn)光平均透過(guò)率為85%,而普通玻璃鍍膜后的可見(jiàn)光平均透過(guò)率僅為79%。此外,由于玻璃表面上的孔結(jié)構(gòu)也提高了薄膜與基板的接觸面積,膜基結(jié)合力提高2倍左右。此外,為了提高薄膜與基板之間的結(jié)合力,本研究提出了反膠束蝕刻技術(shù),在玻璃基板表面產(chǎn)生微米級(jí)尺寸的球形凹坑,來(lái)提高基板粗糙度,從而增加膜基結(jié)合力。當(dāng)蝕刻的玻璃用作鍍膜的基板時(shí),鍍膜的材料將嵌入這些凹坑中并獲得波狀的3D膜。由于與平板玻璃上的薄膜相比,微米級(jí)孔坑玻璃的接觸表面大大增加,因此可以顯著增強(qiáng)薄膜對(duì)玻璃的粘附性。蝕刻技術(shù)增大了玻璃基板的粗糙度約9～20倍,膜基結(jié)合力提高了 2～4倍,不僅增強(qiáng)了膜與基板的粘附性,而且增強(qiáng)了膜與膜的粘附性在蝕刻的玻璃上沉積可產(chǎn)生更致密的薄膜。與此同時(shí),這些薄膜表現(xiàn)出更高的硬度,楊氏模量和導(dǎo)電性。
[Abstract]:With the continuous development of coated glass industry, the demand for coated glass will be higher and higher, and the industry standards will become more and more strict. In this paper, two new glass substrates have been developed from the aspects of improving the visible light transmittance of the coated glass and improving the adhesion of the film substrate of the coated glass. In order to improve the visible light transmittance of the coated glass, a new glass substrate was prepared by reverse micelle etching. That is, porous antireflective glass. A honeycomb porous film is formed on the surface, which reduces the reflectivity of visible light, thus increasing the average transmittance of visible light by 7%. The use of HF or fluorosilicic acid is avoided because the use of HF or fluorosilicic acid is avoided. Therefore, this kind of chemical etching environment is friendly. Subsequently, through a series of RF magnetron sputtering experiments, the optimum conditions for the high average transmittance of visible light and the highest UV cut-off rate are found. CeO2/TiO2 anti-UV films were prepared on porous antireflective glass and common glass respectively. The samples were characterized by UV-Vis spectrophotometer (SEMXRDX XPS). The results showed that under the same coating conditions, the samples were prepared. The average visible light transmittance of porous antireflective glass after coating is 85 and that of common glass is only 79 when the UV barrier ratio of porous antireflective glass and common glass after coating is both 99k.The average visible light transmittance of porous antireflective glass after coating is 85cm, and that of common glass is only 79g. Because the pore structure on the surface of glass also increases the contact area between the film and the substrate, the adhesion of the film to the substrate is increased by about 2 times. In addition, in order to improve the adhesion between the film and the substrate, the reverse micelle etching technique is proposed. Spherical pits of micron size are produced on the surface of the glass substrate to improve the roughness of the substrate, thereby increasing the adhesion of the film substrate. When etched glass is used as the substrate for coating, The coating material will be embedded in these pits and a wave-like 3D film will be obtained. Because the contact surface of the micrometer porous pit glass is greatly increased compared with the thin film on the flat glass, As a result, the adhesion of the film to glass was significantly enhanced. The roughness of the glass substrate was increased by 9 ~ 20 times, and the adhesion of the film to the substrate was increased by 2 ~ 4 times, which not only enhanced the adhesion of the film to the substrate, but also increased the adhesion of the film to the substrate. Moreover, the adhesion between the films and the films is enhanced and the films are deposited on the etched glass to produce denser films. At the same time, these films exhibit higher hardness, Young's modulus and electrical conductivity.
【學(xué)位授予單位】：海南大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2017
【分類(lèi)號(hào)】：TQ171.1

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本文編號(hào)：1593201