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鍍鋅層硅酸鹽及有機硅鈍化研究進展

發(fā)布時間:2018-02-16 10:37

  本文關(guān)鍵詞: 鍍鋅層 硅酸鹽 硅烷 電沉積 耐蝕性 出處:《電鍍與精飾》2016年07期  論文類型:期刊論文


【摘要】:六價鉻污染環(huán)境,危害人體,因此,亟需一種新的鍍鋅鈍化工藝取而代之。硅酸鹽及有機硅鈍化,具有對環(huán)境污染小、使用成本低等特點。利用電沉積技術(shù)在鍍鋅層表面沉積硅酸鹽礦物層,可以解決傳統(tǒng)鈍化膜膜層薄的缺陷。硅酸鹽礦物層具有附著力高、致密、耐蝕性好、硬度高及工藝流程簡單等優(yōu)點。進一步提高此類鈍化膜的耐蝕性能、優(yōu)化工藝流程將是研究方向。
[Abstract]:Because hexavalent chromium pollutes the environment and harms human body, it is urgent to replace it with a new galvanizing passivation process. Silicate and organosilicon passivation have little environmental pollution. Using electrodeposition technology to deposit silicate mineral layer on the surface of galvanized layer can solve the defect of thin film of traditional passivation film. Silicate mineral layer has high adhesion, compactness and good corrosion resistance. Further improving the corrosion resistance of the passivating film and optimizing the technological process will be the research direction.
【作者單位】: 武漢材料保護研究所;武漢紡織大學;馬鞍山鼎泰稀土新材料股份有限公司;
【分類號】:TQ153.3

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本文編號:1515313

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