濺射方法和基體材料對(duì)氧化鈦薄膜微觀結(jié)構(gòu)的影響
本文關(guān)鍵詞: 氧化鈦薄膜 高功率脈沖磁控濺射 直流磁控濺射 基體 晶體結(jié)構(gòu) 化學(xué)價(jià)態(tài) 出處:《表面技術(shù)》2017年09期 論文類型:期刊論文
【摘要】:目的研究不同濺射方法和基體材料對(duì)沉積氧化鈦薄膜的晶體結(jié)構(gòu)、化學(xué)價(jià)態(tài)、表面形貌的影響。方法采用高功率脈沖磁控濺射(HPPMS)和直流磁控濺射(DCMS)在316L不銹鋼和硅片表面制備了氧化鈦薄膜。采用等離子光發(fā)射譜檢測(cè)了沉積薄膜時(shí)的等離子體特征。采用X射線衍射儀(XRD)、X射線光電子能譜(XPS)、原子力顯微鏡(AFM)和掃描電子顯微鏡(SEM),分別評(píng)價(jià)氧化鈦薄膜的晶體結(jié)構(gòu)、化學(xué)價(jià)態(tài)、晶粒尺寸和表面粗糙度。結(jié)果等離子體特征顯示,沉積氧化鈦薄膜時(shí),HPPMS比DCMS具有更高的離化率和等離子體密度。XRD結(jié)果顯示,在相同的平均濺射功率下,采用HPPMS和DCMS方法,均在不銹鋼表面制備出純金紅石結(jié)構(gòu)的氧化鈦薄膜,而在硅片表面得到的氧化鈦薄膜為金紅石、銳鈦礦混合結(jié)構(gòu),且采用HPPMS比DCMS技術(shù)制備的氧化鈦薄膜含有更高的金紅石含量。XPS結(jié)果顯示,兩種方法在所有基體表面均制備出了含有氧缺位的氧化鈦薄膜。采用HPPMS和DCMS制備氧化鈦薄膜時(shí),不銹鋼基體沉積的薄膜中,Ti3+/Ti4+比值均高于Si基體上的薄膜。SEM和硬度測(cè)試結(jié)果顯示,HPPMS制備的氧化鈦薄膜為等軸晶,晶粒較小,硬度較高。DCMS制備的氧化鈦薄膜具有柱狀晶的結(jié)構(gòu),晶粒較大。AFM的結(jié)果顯示,采用不同濺射方法制備的氧化鈦薄膜表面粗糙度沒有明顯差別。結(jié)論不同濺射方法和基體材料導(dǎo)致了薄膜沉積時(shí)樣品表面離子轟擊能量的差異,因此影響了氧化鈦薄膜的晶體結(jié)構(gòu)、化學(xué)價(jià)態(tài)和晶粒尺寸。
[Abstract]:Aim to study the crystal structure and chemical valence state of titanium oxide thin films deposited by different sputtering methods and substrate materials. Effect of Surface Morphology. Methods High Power Pulsed Magnetron sputtering (HPPMS) and DC Magnetron sputtering (DC MS). Titanium oxide thin films were prepared on 316L stainless steel and silicon substrates. Plasma characteristics of the deposited films were measured by plasma emission spectroscopy and X-ray diffractometer (XRD). X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), atomic force microscopy (AFM) and scanning electron microscopy (SEM) were used to evaluate the crystal structure and chemical valence state of titanium oxide films. Results Plasma characteristics showed that HPPMS had higher ionization rate and plasma density than DCMS. Under the same average sputtering power, pure rutile titanium oxide thin films were prepared on stainless steel by HPPMS and DCMS methods, while rutile films were obtained on silicon substrates. The anatase mixed structure and the results of HPPMS show that the titanium oxide films prepared by DCMS have higher rutile content. Titanium oxide thin films with oxygen vacancies were prepared on all substrates by both methods. The thin films deposited on stainless steel substrates were deposited by HPPMS and DCMS. The ratio of Ti3 / Ti _ 4 is higher than that on Si substrate. The results of hardness test show that the titanium oxide films prepared by Ti3 / Ti _ 4 are equiaxed and have smaller grain size. Titanium oxide thin films prepared with higher hardness. DCMS have columnar crystal structure. The results of larger grain size. AFM show that titanium oxide thin films with high hardness have a columnar structure. The surface roughness of titanium oxide films prepared by different sputtering methods has no obvious difference. Conclusion different sputtering methods and substrate materials lead to the difference of surface ion bombardment energy. Therefore, the crystal structure, chemical valence state and grain size of titanium oxide films are affected.
【作者單位】: 西南交通大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院材料先進(jìn)技術(shù)教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;西南交通大學(xué)物理科學(xué)與技術(shù)學(xué)院;
【基金】:國(guó)家自然科學(xué)基金項(xiàng)目(31300787,U1330113)~~
【分類號(hào)】:TB383.2;TQ134.11
【正文快照】: Received:2017-03-23;Revised:2017-05-02氧化鈦薄膜具有良好的機(jī)械性能、化學(xué)穩(wěn)定性和較好的生物相容性[1-4],可用于血管支架、人工心臟瓣膜等心血管材料的表面改性。氧化鈦薄膜有無定形態(tài)以及金紅石和銳鈦礦兩種晶體結(jié)構(gòu)[5],金紅石型氧化鈦相比銳鈦礦型氧化鈦的熱力學(xué)更加穩(wěn)
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,本文編號(hào):1491092
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